[发明专利]光线发射器件结构及其制造方法

权利要求书

1.一种光线发射器件结构，该结构包括，

透明衬底；

在该透明衬底上形成的透明电极；

在该透明电极上形成的一个或多个发光层；

在该一个或多个发光层上形成的反射电极；以及

在该透明衬底上形成用来增强该器件光线对比度的纹理层。

2.如权利要求1中所述的结构，还包括梯度折射系数层。

3.如权利要求2中所述的结构，其中该梯度折射系数层能够抑制该光线发射器件结构的光线反射。

4.如权利要求2或3中所述的结构，其中该梯度折射系数层用作该透明电极。

5.如权利要求2至4任何一项中所述的结构，其中该梯度折射系数层包括透明导电氧化(TCO)层。

6.如权利要求5中所述的结构，其中该TCO层包括缺氧TCO材料。

7.如前面权利要求任何一项中所述的结构，其中该纹理层在该透明衬底的外表面上形成。

8.如前面权利要求任何一项中所述的结构，其中将该纹理层形成为该透明衬底的表面修饰。

9.如权利要求8中所述的结构，其中该纹理层使用化学技术、物理技术或这两种技术来形成纹理。

10.一种用来形成光线发射器件结构的方法，该方法包括，

提供透明衬底；

在该透明衬底上形成透明电极；

在该透明电极上形成一个或多个发光层；

在该一个或多个发光层上形成反射电极；而且

在该透明衬底上形成用来增强该器件光线对比度的纹理层。

11.如权利要求10中所述的方法，还包括形成梯度折射系数层。

12.如权利要求11中所述的方法，其中该梯度折射系数层能够抑制该光线发射器件结构的光线反射。

13.如权利要求11或12中所述的方法，其中该梯度折射系数层用作该透明电极。

14.如权利要求11至13任何一项中所述的方法，其中该梯度折射系数层包括透明导电氧化(TCO)层。

15.如权利要求14中所述的方法，其中该TCO层包括缺氧TCO材料。

16.如权利要求10至15任何一项中所述的方法，其中该纹理层在该透明衬底的外表面上形成。

17.如权利要求10至16任何一项中所述的方法，其中将该纹理层形成为该透明衬底的表面修饰。

18.如权利要求17中所述的方法，其中该纹理层使用化学技术、物理技术或这两种技术来形成纹理。