[发明专利]用于玻璃的可烘干、可丝印抗反射涂层

权利要求书

1.用于生产抗反射涂层的组合物，含有至少一种缩合物，该缩合物通过缩合具有通式 

R_nSiX_4-n（Ι）， 

硅化合物获得，式中，残基X相同或者不同，表示可水解基团或羟基，残基R相同或者不同，表示不可水解基团，n为0，1，2或3，其中所述缩合物在至少一种聚合物流体性质调节剂存在的情况下生产，其中所述组合物以胶体分解溶液的形式存在，组合物溶液中的缩合物以微粒的形式存在，特征在于所述组合物含有至少一种含量为5wt.%～15wt.%的聚合物流体性质调节剂和至少一种沸点至少为150℃的溶剂。 

2.根据权利要求1所述的组合物，特征在于0.5s^-1的切变速率和25℃的温度下，所述组合物的粘度在1.0～6Pa·s之间。 

3.根据权利要求1所述的组合物，特征在于30s^-1的切变速率和25℃的温度下，所述组合物的粘度在0.8～2.5Pa·s之间。 

4.根据权利要求1所述的组合物，特征在于所述流体性质调节剂含有羟基。 

5.根据权利要求4所述的组合物，特征在于所述流体性质调节剂为纤维素或纤维素衍生物。 

6.根据权利要求1所述的组合物，特征在于所述流体性质调节剂的分子量Mw在500～500000g/mol之间。 

7.根据权利要求1所述的组合物，特征在于所述缩合物通过缩合含有至少一种具有通式SiX₄的混合物获得，式中，残基X相同或者不同，表示可水解基团或羟基。 

8.根据权利要求7所述的组合物，特征在于根据单体硅化合物的总量，具有通式SiX₄硅化合物的比例为20wt.%～80wt.%。 

9.根据权利要求1所述的组合物，特征在于所述缩合物通过缩合含有至少一种具有通式RSiX₃的混合物获得，式中，残基X相同或者不同，表示可水解基团或羟基，残基R表示不可水解基团。 

10.根据权利要求1所述的组合物，特征在于所述缩合物通过缩合含有至少一种具有通式R₂SiX₂的混合物获得，式中，残基X相同或者不同，表示可水解基团或羟基，残基R相同或者不同，表示不可水解基团。 

11.根据权利要求1所述的组合物，特征在于所述缩合物通过缩合含有至少一种具有通式R₃SiX的混合物获得，式中，残基X相同或者不同，表示可水解基团或羟基，残基R表示相同或不同的不可水解基团。 

12.根据权利要求1所述的组合物，特征在于所述组合物含有至少60wt.%的沸点至少为150℃的一种溶剂。 

13.根据权利要求12所述的组合物，特征在于所述组合物含有至少70wt.%的溶剂。 

14.根据权利要求12所述的组合物，特征在于所述溶剂的沸点至少为200℃。 

15.根据权利要求1所述的组合物，特征在于所述缩合物在至少一种聚合物流体性质调节剂和至少一种沸点至少为150℃溶剂存在的情况下生产。 

16.根据权利要求1所述的组合物，特征在于组合物中，SiO₂缩合物的比例为0.01wt.%～5wt.%。 

17.生产权利要求1所述组合物的生产工艺，特征在于混合包括至少一种沸点至少为150℃的溶剂、至少一种含量为5wt.%～15wt.%的流体性质调节剂和至少一种权利要求1所述的具有通式 

R_nSiX_4-n（Ι）， 

的化合物混合物，缩合通式（Ι）的化合物，式（Ι）中，残基相同或者不同，R表示含有1～10个碳原子的有机残基，中间插有氧和/或硫原子和/或氨基，X表示氢、卤素、羟基、烷氧基、酰氧基、烷羰基、烷氧羰基或NR'₂，其中R'代表氢、烷基或芳基，n为0、1、2或3。