[发明专利]用于玻璃的可烘干、可丝印抗反射涂层

说明书

技术领域

本发明涉及用于生产抗反射涂层的组合物，以及组合物的生产和使用方 法。

背景技术

当光通过两种具有不同折射率介质之间的交界面时，一部分光辐射被反射 掉。垂直入射的光在折射率n＝1.5的一片玻璃上，其总反射率大约是8％。在 光倾斜入射在上述分界面上的情况下，反射率要大的多。在许多应用中，高反 射率是不受欢迎的，因为这会导致透光量的减少。

因此，人们试图减少这种反射。例如，在表面设置布满微孔的涂层以达到 这一目标。这种类型的涂层阐述在如德国专利DE19642419 A1、DE19918811 A1、DE102004027842 A1、DE102006001078 A1、国际申请公开文件 WO03/027034 A2、德国专利DE10051724 A1和DE10051725 A1中。

DE19642419 A1描述了使用特定聚合物，生产出组合物，使用该组合物可 以特别简单和经济地获得抗反射涂层。但是，上述组合物只适用于浸涂法。

DE19918811 A1同样描述了用于生产抗反射涂层，含有特定聚合物的组合 物。特别的，此组合物可用于涂覆安全玻璃。这些组合物也只适用于浸涂法。

DE102004027842 A1所描述的抗反射层含有高比例的MgF₂。此方案的明 显不足是MgF₂的价格问题。此外，如果涂覆后的基片处理不当，会产生对环 境有害和有毒的氢氟酸(HF)。

DE102006001078 A1描述了一种多层的抗反射涂层，所述涂层由致密层和 多孔层组成，致密层一般含有氟化物，因此这种涂层同样存在上述方案的缺陷。 虽然它指出多孔层可以通过“棒式涂法”(Bar-Coating-Verfahren)获得，但在文 件中找不到可参照的实施例。没有使用聚合物用来生产此组合物。

未进行审查的专利申请公开文件WO03/027034 A2描述了具有特别高机械 稳定性的抗反射涂层。这一特性是通过使用具有特定颗粒大小分布的SiO₂颗 粒获得的。用于上述涂层的组合物适用于浸涂法。

此外，DE10051724 A1描述了一种用于生产抗反射层的涂布溶液。然而， 此溶液只适用于浸涂法、喷涂法或者旋压覆膜法 (Rotationsbeschichtungsverfahren)。

另外，DE10051725 A1描述了用于生产抗反射层的组合物，该组合物含有 高比例的表面活性剂。然而，此溶液只适用于浸涂法、喷涂法或者旋压覆膜法。

浸涂法是一种相对昂贵的方法，因为这需要使用大量的涂布溶液完全浸没 基片。必须克服大量粉尘的影响才能获得没有缺陷的涂层。与之相比，丝印法 或辊涂法在技术上更加易于操作。

现有的可丝印SiO₂溶胶并不适用于生产抗反射涂层。这种溶胶在例如 DE19946712 A1、DE3826715 A1、JohannaGerhard Schottner， Karl-Joachim Deichmann；Fundamentals of Glass Science & Technology-3rd ESG Conf.1995；Glastech.Ber.Glass Sei.Technol.68Cl(1995)，pp.378-385都有 公开过。

对上述文件公开的组合物做简单改变，获得用于生产具有良好的抗反射特 性的涂浆(Pasten)存在显而易见的困难。

发明内容

鉴于现有技术，本发明的一个目的在于提供用于生产抗反射涂层的组合 物，使用该组合物能够极其简单和经济地在基片上获得抗反射层。特别的，这 种组合物能通过印刷法(如丝印法)和辊涂法施用于基片，然后通过简单的步 骤转变为抗反射涂层。另一个目的在于提供用于生产抗反射层的组合物，该抗 反射层能够转变为具有特别好粘附力和机械稳定性的涂层。

以上和其他没有明确被提及，但是可以从本文件中背景技术内容没有难度 地衍生或推断出的目的，通过含有包括权利要求1所有特征的组合物来实现。 本发明组合物实用的改进特征由其从属权利要求保护。与本发明产品的生产和 使用的相关工艺，由权利要求18和23所述的内容提供。

本发明所采取的技术方案是：