[发明专利]光学元件保持装置、镜筒及曝光装置以及器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 200880018232.2 申请日: 2008-04-21
公开(公告)号: CN101681009A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 新井洋一 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G02B7/02 分类号: G02B7/02;G02B7/00;G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 经志强;杨林森
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 元件 保持 装置 曝光 以及 器件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学元件保持装置,用于保持光学元件,其特征在于,具有:

保持部,其保持所述光学元件;

振动衰减构件,其相对于被保持于所述保持部的所述光学元件的表 面中的与光所入射的入射区域不同的区域的至少一部分表面以非接触 的状态设置,使所述光学元件中产生的振动衰减,

利用所述光学元件的所述至少一部分表面与所述振动衰减构件之 间的流体的压力变动,使所述光学元件中产生的振动衰减。

2.根据权利要求1所述的光学元件保持装置,其特征在于,所述振 动衰减构件相对于所述光学元件的侧面以非接触的状态设置。

3.根据权利要求1所述的光学元件保持装置,其特征在于,所述振 动衰减构件沿着所述光学元件的所述至少一部分表面延伸,并且与所述 至少一部分表面隔开规定距离。

4.根据权利要求1~3中任意一项所述的光学元件保持装置,其特征 在于,所述振动衰减构件具备使该振动衰减构件自身的振动衰减的减振 材料。

5.根据权利要求4所述的光学元件保持装置,其特征在于,所述减 振材料具备叠层体或金属板,该叠层体包括金属和粘弹性体。

6.根据权利要求1所述的光学元件保持装置,其特征在于,所述流 体具有比构成所述光学元件暴露于其中的气氛的流体更高的粘性。

7.根据权利要求1~3、5、6中任意一项所述的光学元件保持装置, 其特征在于,在所述光学元件与所述振动衰减构件之间,形成挤压膜减 震器。

8.根据权利要求1~3、5、6中任意一项所述的光学元件保持装置, 其特征在于,所述振动衰减构件安装于保持所述光学元件的保持构件 上。

9.根据权利要求8所述的光学元件保持装置,其特征在于,在所述 保持构件与所述振动衰减构件之间,设置有具有减振作用的连接构件。

10.一种光学元件保持装置,用于保持光学元件,其特征在于,具 有:

保持部,其保持所述光学元件;

减振机构,所述减振机构具有振动衰减构件,并在所述振动衰减构 件与所述光学元件的表面中的与光所入射的入射区域不同的区域的至 少一部分表面之间产生挤压膜作用,所述振动衰减构件相对于由所述保 持部保持的所述光学元件的表面中的所述至少一部分表面相面对并以 非接触的状态设置,

所述减振机构,响应所述光学元件中产生的振动,使在所述振动衰 减构件与所述光学元件的表面之间的间隙中所存在的流体产生压力变 化。

11.根据权利要求10所述的光学元件保持装置,其特征在于,所述 减振机构利用所述流体的压力变化,使所述光学元件中产生的振动衰 减。

12.一种镜筒,保持有多个光学元件,其特征在于,借助权利要求 1~11中任意一项所述的光学元件保持装置保持所述光学元件的至少1 个。

13.一种曝光装置,利用透过多个光学元件的曝光光使基板曝光, 其特征在于,借助权利要求1~11中任意一项所述的光学元件保持装置 保持所述多个光学元件的至少1个。

14.根据权利要求13所述的曝光装置,其特征在于,所述多个光学 元件构成在所述基板上形成图案的光学系统。

15.一种器件的制造方法,包括光刻工序,其特征在于,所述光刻 工序使用权利要求13或14所述的曝光装置。

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