[发明专利]光学元件保持装置、镜筒及曝光装置以及器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 200880018232.2 申请日: 2008-04-21
公开(公告)号: CN101681009A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 新井洋一 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G02B7/02 分类号: G02B7/02;G02B7/00;G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 经志强;杨林森
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 元件 保持 装置 曝光 以及 器件 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及用于保持例如透镜、反射镜等光学元件的光学元件保持 装置。另外,本发明涉及具有至少一个光学元件的镜筒。此外,本发明涉 及例如在半导体元件、液晶显示元件、薄膜磁头等器件的制造工序中所使 用的曝光装置以及器件的制造方法。

本申请主张于2007年4月23日申请的日本特愿2007-113049号 的优先权,并在这里援引其内容。

背景技术

此种曝光装置中的光学系统具有透镜、反射镜等多个光学元件。 此种曝光装置中,在光学系统的组装时、保存时、搬送时以及曝光装置 的动作时,需要尽可能地减小因温度变化、来自外部的冲击等而产生的 各光学元件的变形。

所以,曝光装置的光学系统当中,特别是投影光学系统的各光学 元件(例如透镜)一般来说被借助保持装置收容于镜筒内。该保持装置 具有透镜单元,该透镜单元被设计为,能够消除在投影光学系统的组装 中产生的振动问题(例如施加在镜筒上的冲击传递到透镜)、因温度变 化而产生的透镜与透镜的线膨胀系数的差异。

近年来,伴随着日益强烈的高集成度化要求,半导体元件的电路 图案日渐微细化。由此,半导体元件制造用曝光装置中,提高了对曝光 精度及高分辨率化的要求,增加了光学元件的光学面保持为良好的状态 的技术的重要性。

作为此种保持装置,提出过如下的保持装置,其具备在透镜单元 内形成的悬臂弯曲部,将例如用于粘接透镜的3个支座位置配置于该悬 臂弯曲部上(参照专利文献1)。该以往构成中,将因温度变化而产生的 透镜单元及透镜的伸缩及收缩利用悬臂弯曲部吸收,使得透镜不会因机 械的应力而歪曲。

专利文献1:美国专利4,733,945号

但是,上述以往构成的保持装置中,由于悬臂弯曲部作为弹簧或 枢轴发挥作用,因此悬臂弯曲部的振动模式频率低,从而存在例如由电 机或载台等可动构件的振动激发的透镜的振动对光学系统的光学性能 产生影响的问题。另外,由于悬臂弯曲部的振动衰减率也很低,因此如 果在透镜中产生振动,则该透镜的振动有可能不衰减。由此,光学系统 的光学性能就会变得不稳定,进而存在曝光装置的曝光精度有可能降低 的问题。

发明内容

本发明提供在光学元件中产生振动时可以有效地衰减光学元件的 振动的光学元件保持装置及镜筒。另外,本发明提供可以高效地制造高 集成度的器件的曝光装置及器件的制造方法。

本发明的实施方式如图1~图9所示,采用以下的构成。

本发明的一个实施方式的光学元件保持装置是保持光学元件(28) 的光学元件保持装置(29),具有振动衰减构件(41),该振动衰减构件 (41)相对于上述光学元件的表面中的至少一部分的表面,以非接触的 状态设置,使上述光学元件中产生的振动衰减。

根据该实施方式,即使在光学元件中产生了振动,光学元件的振 动也会被相对于光学元件以非接触的状态设置的振动衰减构件所衰减。 而且,由于振动衰减构件是相对于光学元件的表面以非接触的状态设 置,因此光学元件的表面状态不会随着振动衰减构件的配置而变化。所 以,可以良好地保持光学元件的光学性能。

本发明的一个实施方式的光学元件保持装置是保持光学元件的光 学元件保持装置,其具有减振机构(41,C),该减振机构(41,C)与 上述光学元件的表面中的至少一部分的表面之间产生挤压膜作用。

根据该实施方式,利用在光学元件和减振机构之间产生的挤压膜 作用,可以用极为简单的构成使在光学元件中产生的振动衰减,可以良 好地保持光学元件的光学性能。

而且,虽然为了容易理解地说明本发明,附加了附图的符号地进 行说明,然而本发明当然并不限定于实施方式,而是由技术方案的范围 规定。

附图说明

图1是表示本发明的第一实施方式的曝光装置的概略构成图。

图2是表示本发明的第一实施方式的光学元件保持装置的剖面图。

图3是图2的光学元件保持装置的局部剖开分解立体图。

图4是图3的光学元件保持装置的保持部的放大图。

图5是图3的光学元件保持装置的支承面部件及支承部件的放大 图。

图6是表示图2的光学元件保持装置的俯视图。

图7是表示本发明的第二实施方式的光学元件保持装置的剖面图。

图8是器件的制造例的流程图。

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