[发明专利]检查装置、检查方法和程序

说明书

技术领域

本发明涉及检查装置、检查方法和程序，其用于特别是在半导体元件、液晶显示元件等的制造过程中检查样品表面上的缺陷。 

背景技术

传统地，已经提出了如下的各种的装置，所述装置利用从形成在半导体晶圆或液晶基板(通常称为“样品”)的表面上的图案生成的衍射光来检测在样品表面上的缺陷例如不平坦或瑕疵。特别地，近年来，通过半导体工艺的小型化，在样品的缺陷控制中也需要更高的精度。 

例如，专利文献1公开了一种电子电路部件检查装置，该装置基于提前确定的好的基准颜色数据和基于彩色图像的检查表面的颜色数据之间的差来选择基板的不良候选区域。专利文献1：日本未审查的专利申请公开No.2003-302354。 

发明内容

本发明要解决的问题

顺便提一下，为了在上述缺陷检查中准确地观察图案，优选地集中于分析结果之中显著地表现图案特征的部分来执行观察。然而，识别分析结果中显著地表现图案特征的部分是复杂的，并且这方面仍需要改进。 

本发明意在解决传统技术中的上述问题。本发明的主题是提供一种装置，用于识别分析结果中显著地表现图案特征的部分。 

解决问题的方式

根据本发明的第一方面的检查装置包括：台，所述台用于放置样品，所述样品具有形成在表面上的图案；物镜，所述物镜用于观察所述图案；照明光学系统；检测光学系统；成像部；以及分析部。所述照明光学系统包括光源和偏光器。然后，所述照明光学系统从所述光源选择任意波长区域，并且经由所述偏光器和所述物镜落射照明所述样品。所述检测光学系统包括具有与所述偏光器的偏振方向交叉的偏振面的检偏器。然后，检测光学系统经由所述物镜和所述检偏器检测来自所述样品的光，并且基于所述光获得样品表面的傅立叶图像。所述成像部成像所述傅立叶图像。所述分析部执行计算处理，以在所述傅立叶图像中确定显著区域，所述显著区域相比于其他区域受所述图案的状态的影响更大。 

根据本发明的第二方面，在本发明的第一方面中，所述分析部基于多个所述傅立叶图像，为图像内的每一位置计算在多个傅立叶图像之间发生的阶调(gradation)的差，并且进一步从所述阶调的差的幅度确定所述显著区域，其中所述傅立叶图像每个都具有所述图案的不同曝光条件。 

根据本发明的第三方面，在本发明的第二方面中，所述成像部生成所述傅立叶图像的颜色数据。此外，所述分析部计算关于所述傅立叶图像的每一颜色分量的所述阶调的差，并且基于所述颜色分量中的一个的数据而确定所述显著区域。 

根据本发明的第四方面，在本发明的第一方面中，所述检查装置进一步包括数据输入部，所述数据输入部接收与所述傅立叶图像对应的所述图案的线宽数据。此外，所述分析部基于多个所述傅立叶图像，为图像内的每一位置计算在所述傅立叶图像的阶调值和与所述图案的线宽之间的改变率，并且基于所述改变率的值确定所述显著 区域，其中所述傅立叶图像每个都具有所述图案的不同曝光条件。 

根据本发明的第五方面，在本发明的第四方面中，所述成像部生成所述傅立叶图像的颜色数据，此外，所述分析部计算关于所述傅立叶图像的每一颜色分量的所述改变率，并且基于所述颜色分量中的一个的数据而确定所述显著区域。 

根据本发明的第六方面，在本发明的第四或第五方面中，所述分析部进一步为图像内的每一位置计算所述线宽的相关误差，并且基于所述改变率的值和所述相关误差而确定所述显著区域。 

根据本发明的第七方面，在本发明的第一到第六方面的任何一方面中，所述分析部基于与所述显著区域对应的所述傅立叶图像的数据而执行样品中的图案是良好还是有缺陷的确定或者图案的改变的检测中的至少之一。 

根据本发明的第八方面，在本发明的第四到第六方面的任何一方面中，所述分析部在计算所述改变率时确定用于将所述阶调值转换成所述线宽的近似，并且基于所述近似从所述傅立叶图像估计所述线宽。 

注意的是，通过将与本发明的上述方面相关的构造转换成检查方法而获得的实施、和使计算机执行所述检查方法的程序等作为本发明的具体实施例也是有效的。 本发明的效果 

根据本发明，基于通过对样品的图案成像而获得的傅立叶图像，可以确定显著区域，所述显著区域相比于其他区域受图案的状态的影响更大。 

附图说明