[发明专利]通过炔烃的无金属催化环三聚反应合成酰基芳烃和超支化聚酰基芳烃有效
申请号: | 200880019681.9 | 申请日: | 2008-03-04 |
公开(公告)号: | CN101679616A | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
发明(设计)人: | 唐本忠;詹嘉慧;秦安军;M·霍伊斯勒;林荣业 | 申请(专利权)人: | 香港科技大学 |
主分类号: | C08G61/00 | 分类号: | C08G61/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 林毅斌;李炳爱 |
地址: | 中国香港*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 通过 金属 催化 三聚 反应 合成 芳烃 超支 化聚酰基 | ||
1.包含多个末端单元和多个内部单元的聚合物,所述内部单 元为式(I):
其中X-R1-X为二酰基乙炔的残基,X为O、NH或S,n大于 1且上限为100,且所述内部单元具有相同R1或不同R1,且R1独立 选自:
且
其中所述末端单元是仅一个羰基乙炔基团参与聚合的单酰基乙 炔或二酰基乙炔。
2.权利要求1的聚合物,其中X为O。
3.权利要求1或权利要求2的聚合物,其中所有所述内部单 元中的R1相同。
4.权利要求1聚合物的制备方法,所述方法包括以下聚合步 骤:
其中所述单体包括一种或多种二酰基乙炔,X-R1-X为所述二酰 基乙炔的残基,X为O、NH或S,n大于1且上限为100,且所述式 (I)中的R1彼此相同或不同,且R1独立选自:
5.权利要求4的方法,其中所述聚合在无金属催化下进行。
6.权利要求4的方法,其中所述单体包括一种或多种下式(III) 的二酰基乙炔:
其中为选自如下的任一个:
X为O、NH或S。
7.权利要求4的方法,其中X为O。
8.权利要求6的方法,其中所述式(III)的二酰基乙炔通过下式 (IV)的有机化合物或有机金属化合物与下式(V)的丙炔酸之间的缩合 反应制备:
其中的定义同权利要求6,DCC是1,3-二环己基碳化二亚胺,且 DMAP是4-(二甲氨基)吡啶。
9.权利要求4的方法,其中式(I)所有内部单元中的R1相同。
10.权利要求4的方法,其中所述单体还包括用于将所述聚合 物封端的一种或多种单酰基炔。
11.权利要求4的方法,其中所述聚合反应进行至少20小时 到至多60小时。
12.权利要求4的方法,其中所述仲胺选自:二甲基甲酰胺 (DMF)、哌啶、二乙胺、二苯胺、N,N-二异丙基乙胺(DIPEA)、1,8- -二氮杂双环十一碳-7-烯(DBU)。
13.权利要求12的方法,其中所述仲胺为二甲基甲酰胺 (DMF)。
14.权利要求13的方法,其中所述聚合在N2下或空气中进 行。
15.权利要求4的方法,其中所述聚合通过与在二噁烷中的哌 啶一起回流进行。
16.光蚀刻图案化方法,所述方法包括将能源施加于权利要求 1的聚合物的步骤。
17.权利要求16的方法,其中所述能源为紫外光。
18.权利要求16的方法,其中在施加能源后所述聚合物折射 率显示出波长依赖性提高。
19.包含权利要求1的聚合物的热固性材料。
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