[发明专利]图案数据的处理方法以及电子器件的制造方法

权利要求书

1.一种用于处理掩膜图案的设计数据的图案数据处理方法，所述方 法包括：

从所述掩膜图案的设计数据中提取预定区域，其中所述预定区域在第 一方向上的尺寸大于或者等于第一参考值且在与所述第一方向交叉的方 向上的尺寸大于或者等于第二参考值，以及

指定所提取的所述预定区域作为用于位置测量的图案区域，

当被曝光并且被转移到曝光体上时所述预定区域具有大于或等于位 置测量系统的分辨率的尺寸。

2.根据权利要求1所述的图案数据处理方法，还包括：

基于所述设计数据提取对应于图案边缘的部分；

其中基于所述对应于图案边缘的部分的位置信息和形状信息中的至 少一个执行所述图案区域的指定。

3.根据权利要求1所述的图案数据处理方法，还包括：

当指定多个图案区域时，从所述多个图案区域中选择预定数量的图案 区域。

4.根据权利要求3所述的图案数据处理方法，其中基于所述设计数 据中的所述多个图案区域的位置关系执行所述选择预定数量的图案区域。

5.根据权利要求4所述的图案数据处理方法，其中所述选择预定数 量的图案区域被执行为使得所述预定数量的图案区域以基本上均匀的密 度分布在所述设计数据中。

6.根据权利要求1所述的图案数据处理方法，还包括：

基于所述指定的结果，将所述图案区域的位置信息存储在所述设计数 据中。

7.根据权利要求1所述的图案数据处理方法，还包括：

基于所述指定的结果，将与所述图案区域有关的形状信息或者与所述 图案区域的尺寸有关的信息中的至少一个存储在所述设计数据中。

8.根据权利要求1所述的图案数据处理方法，还包括：

基于所述指定的结果，将所述图案区域的位置信息与所述设计数据中 的有关所述图案区域的形状信息和有关所述图案区域的尺寸的信息中的 至少一个相关联地存储在所述设计数据中。

9.根据权利要求1所述的图案数据处理方法，其中所述预定区域是 其中所述设计数据的值相同的单个区域。

10.根据权利要求1所述的图案数据处理方法，其中：

所述预定区域包括第一区域和第二区域，其中所述第一区域中的设计 数据的值不同于所述第二区域中的设计数据的值。

11.根据权利要求10所述的图案数据处理方法，其中所述第一区域 的第一方向上的尺寸和所述第二区域的第一方向上的尺寸中的至少一个 小于或者等于第三参考值。

12.根据权利要求11所述的图案数据处理方法，其中所述第三参考 值小于或者等于所述第一参考值的五倍。

13.一种电子器件的制造方法，所述方法包括：

第一曝光步骤，其在曝光体上形成第一掩膜图案；

图案区域指定步骤，其使用根据权利要求1到10中的任一项所述的 图案数据处理方法，根据所述第一掩膜图案的设计数据来指定图案区域；

位置确定步骤，其使用与在所述图案区域指定步骤中获得的图案区域 有关的信息，确定在所述第一曝光步骤中在所述曝光体上形成的第一掩膜 图案的位置信息；以及

第二曝光步骤，其基于在所述位置确定步骤中获得的第一掩膜图案的 位置信息而在所述曝光体上形成第二掩膜图案。

14.根据权利要求13所述的电子器件的制造方法，其中所述位置确 定步骤包括使用与所述图案区域有关的信息，用图案位置测量系统测量对 应于在所述曝光体上形成的所述图案区域的至少一个图案区域的步骤。

15.根据权利要求14所述的电子器件的制造方法，其中将所述第一 参考值转换为在所述曝光体上的尺寸并且将其设置为大于或者等于所述 图案位置测量系统的分辨率。