[发明专利]包含锶离子的骨组织植入物

权利要求书

1.用于植入到骨组织中的植入物，所述植入物具有表面；所述表 面被氧化物层覆盖，其特征在于，所述氧化物层包含锶离子且所述氧 化物层的厚度在2-100nm的范围。

2.如权利要求1所述的植入物，其中，所述植入物为金属植入 物。

3.如权利要求2所述的植入物，其中，所述金属植入物包含钛 或钛合金。

4.如权利要求1所述的植入物，其中，所述植入物为非-金属植 入物；所述表面为施加的金属植入物层。

5.如权利要求4所述的植入物，其中，所述金属植入物层包含 钛或钛合金。

6.如权利要求1所述的植入物，其中，所述氧化物层的厚度在2 -18nm的范围。

7.如权利要求1或6所述的植入物，其中，所述氧化物层的厚度 在2-6nm的范围。

8.如权利要求1-6中任一项所述的植入物，其中，所述氧化物层 是从所述植入物的所述表面形成的金属氧化物层。

9.如权利要求1-6中任一项所述的植入物，还包含在所述氧化物 层上面的沉积物，其中，所述沉积物包含骨刺激剂。

10.如权利要求9所述的植入物，其中，所述骨刺激剂选自锶、 锂、镁和钙或它们的组合。

11.如权利要求9所述的植入物，其中，所述沉积物是盐沉淀 物，包含选自锶、锂、镁和钙的离子中的任一种或它们的组合。

12.如权利要求11所述的植入物，其中，所述盐沉淀物是锶盐 沉淀物。

13.如权利要求1-6以及权利要求10-12中任一项所述的植入物， 其中，所述植入物没有包含磷酸钙化合物的涂层。

14.如权利要求1-6以及权利要求10-12中任一项所述的植入物， 其中，所述植入物的所述表面包含微粗糙度。

15.如权利要求1-6以及权利要求10-12中任一项所述的植入物， 其中，所述植入物的所述表面包含氟。

16.制备骨组织植入物的方法，所述植入物具有被氧化物层覆盖 的植入物表面，其中所述氧化物层包含锶离子并具有2-100nm的厚 度，所述方法包含以下步骤：

a)提供具有植入物表面的植入物；

b)形成覆盖所述植入物表面的氧化物层；

c)在所述氧化物层上形成带负电的离子；和

d)使所述氧化物层与锶离子接触。

17.如权利要求16所述的方法，其中，所述氧化物层是自发形 成的。

18.如权利要求16或17所述的方法，其中，所述氧化物层上的 所述带负电的离子是通过将所述植入物表面置于碱性环境中而形成 的。

19.如权利要求18所述的方法，其中，所述碱性环境是通过将 所述植入物表面置于碱性溶液中而形成的。

20.如权利要求18所述的方法，其中，所述氧化物层上的所述 带负电的离子是通过施加-0.5V至-3.5V范围的电势而形成的。

21.如权利要求16所述的方法，其中，所述步骤c和所述步骤d 是同时进行的。

22.如权利要求16所述的方法，其中，通过将所述氧化物层置于 包含锶离子的溶液中，使所述氧化物层与锶离子接触。

23.如权利要求22所述的方法，其中，所述溶液包含氢氧化锶。

24.如权利要求23所述的方法，其中，所述溶液包含浓度为0.03 M或更低的氢氧化锶。

25.如权利要求16所述的方法，还包含在所述氧化物层上面形 成包含骨刺激剂的沉积物的步骤。

26.如权利要求25所述的方法，其中，所述骨刺激剂选自锶、 锂、钙和镁或它们的组合。