[发明专利]处理装置及具有处理装置的洁净系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种适用于显示装置的制造等需要洁净环境的工序的处理装 置及具有这种处理装置而构筑的洁净系统。

背景技术

洁净室用于如显示装置的制造等需要洁净环境的工序中。为洁净地保持其 中的空气，洁净室利用使用了可从空气中除去细微尘埃及其它污染物质的特别 过滤器的送风装置。为维持高洁净度及防止过滤器的劣化，使用后的洁净空气 一般不舍弃而回流，并使其使反复通过过滤器。

为了相关目的，洁净室具有特别的结构。即，在典型的结构中，洁净室的 天棚具有天棚面和低于天棚面而被支撑的天棚的双层结构，双层结构的内部成 为空气可流通的腔室。洁净室的地板具有地板面和高于地板面而被支撑的格 栅，地板面和格栅之间也形成腔室。天棚侧的腔室和地板侧的腔室通过回流管 道所连通。过滤器及送风装置，通常设置在天棚而使之与天棚侧腔室连通。洁 净室内的各装置设置在格栅上，从天棚侧供给的洁净空气通过各装置并通过格 栅，向下流到地板侧腔室。向下流到地板侧腔室内的洁净空气，由回流管道汇 集并回流到天棚侧的腔室。

相关技术记载于日本国特开平11-337115号及特开平10-116758号公报中。

从上述说明中可知，现有的洁净室由于具有特别的结构，从而不容易构筑。 并且，由于需要设置天棚及地板的腔室用的空间，由此发生无法设置装置的很 大的闲置空间，给装置的设计带来限制。

发明内容

本发明就是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种即使在地板面没 有格栅或腔室时也可通过直接设置在该地板面而容易构筑，且可对装置的设计 提供很大的自由度的洁净系统。

根据本发明第一方面的处理装置，该处理装置与具有供给洁净空气的送风 装置和地板面的房间共同利用，其具有可容纳所述洁净空气的装置主体和台； 该台支撑所述装置主体，是从以下组中选择的任意台；即：

具有在与所述地板面之间气密地围住可通气的空间的结构的台，以及

气密地围住可通气的空间且可设置在所述地板面上的台；所述台具有：与 所述空间连通的进风口，将已通过所述装置主体的所述洁净空气经由所述进风 口导入到所述空间的吸引风扇。

优选还具有：与所述台气密地结合，且构成为使导入到所述空间的所述洁 净空气向所述送风装置回流的回流管道。

根据本发明第二方面的一种洁净系统，具有：

具有围住腔室的天棚和地板面的房间；

与所述腔室连通，净化所述腔室内的空气并供给洁净空气的送风装置；

配置成可容纳所述洁净空气的装置主体；

台；该台支撑所述装置主体，是从以下组中选择的任意台；即：

构成为在与所述地板面之间气密地围住可通气的空间的台，以及

气密地围住可通气的空间且可设置在所述地板面上的台；所述台具有：与 所述空间连通的进风口，将已通过所述装置主体的所述洁净空气经由所述进风 口导入到所述空间的吸引风扇；

应连通所述空间和所述腔室、气密地结合所述台及所述天棚的回流管道。

附图说明

图1是表示根据本发明的一个实施方式的洁净系统的剖视图。

图2是沿图1的II-II线取的剖视图。

图3是变形例的洁净系统的剖视图。

具体实施方式

以下参照附图对本发明实施方式进行说明。虽然在下面举例说明了用于暂 时储存作为显示装置的元件的玻璃衬底、并供给到下游的装置的保管装置，但 本发明的实施并不限于此。

根据本发明实施方式的洁净系统1，如图1所示，是利用建筑物3内的房 间5来构筑的。房间5的地板面5f，为防止发生尘埃，在例如砂浆上涂布敷了 由聚氨酯树脂等构成的涂料的结构，但不限于此。房间5的天棚5c低于建筑 物3的天棚面，在两者之间确保空气可以流通的天棚腔室7。天棚5c具有开 口，与开口连通而设置有向下方供给洁净空气的送风装置9。供给洁净空气的 送风装置9具有从空气中去除细微尘埃及其它污染物的过滤器和将已净化的 空气送出的风扇，也可以采用能适用于洁净室的任何公知装置。房间5具有应 连通其地板面附近与天棚腔室7的大致垂直的回流管道11。回流管道11也做 成应使空气流通的结构。