[发明专利]由阀金属和阀金属低氧化物组成的纳米结构及其制备方法无效
| 申请号： | 200880103432.8 | 申请日： | 2008-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN101778683A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | G·吉勒;C·施尼特;H·布鲁姆;H·哈斯;R·穆勒;M·波贝斯 | 申请（专利权）人： | H.C.施塔克有限公司 |
| 主分类号： | B22F9/22 | 分类号： | B22F9/22;B22F1/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 朱黎明;周承泽 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属 氧化物 组成 纳米 结构 及其 制备 方法 | ||
1.带状或板状阀金属和阀金属低氧化物结构，其具有5-100nm的横向尺寸。
2.如权利要求1所述的阀金属和阀金属低氧化物结构，其特征在于，其具有粉末形式的板状或层状初级结构。
3.如权利要求1所述的阀金属和阀金属低氧化物结构，其特征在于，其形式为表面带结构。
4.如权利要求3所述的阀金属结构，其特征在于，其形式为具有带的箔或丝，带宽为5-100nm，带间距为带宽的1-2倍。
5.如权利要求1-4中任一项所述的阀金属和阀金属低氧化物结构，其特征在于，所述带或片层分组平行对齐。
6.如权利要求1-5中任一项所述的阀金属和阀金属低氧化物结构，其特征在于，所述横向尺寸或带宽为8-50nm。
7.如权利要求1-6中任一项所述的阀金属结构，其特征在于，其包含Ti、Zr、V、Nb、Ta、Mo、W、Hf或Al，特别是Nb或Ta，或其合金。
8.如权利要求1-6中任一项所述的阀金属低氧化物结构，其特征在于，其具有化学式NbOx，其中0.7＜x＜1.3。
9.如权利要求1-8中任一项所述的阀金属和阀金属低氧化物结构，其特征在于，至少一种还原性金属的含量为10-500ppm。
10.一种在足以进行还原的温度下，通过还原性金属蒸气将阀金属氧化物还原形成片层纳米结构的方法，其特征在于，在片层结构发生热分解和转化为粗化结构之前，冻结被还原的阀金属氧化物。
11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述还原在小于0.2巴的惰性气体压力下、10-2-0.4巴还原性金属蒸气压力的条件下进行。
12.如权利要求10或11所述的方法，其特征在于，还原完成之后，立即在数分钟之内将还原产物冷却至低于100℃。
13.如权利要求10-12中任一项所述的方法，其特征在于，用Li、Al、Mg和/或Ca，特别是Mg作为还原性金属。
14.如权利要求10-13中任一项所述的方法，其特征在于，用Al、Hf、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Mo和/或W的氧化物及其混合氧化物，特别是Nb或Ta的氧化物作为待还原氧化物。
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