[发明专利]组织处理装置

权利要求书

1.组织处理装置，其包括射频(r.f.)发生器、处理仪器以及光学分析设备，其中所述仪器具有：气体导管，该气体导管终止于一个等离子喷嘴并且可连接至一个可电离气源；以及与所述导管相连的一对电极，该对电极可连接至所述发生器并被布置为当被发生器提供一射频电压时在导管内产生一电场，从而当该仪器被供给以气体时在流经所述导管的可电离气体中产生等离子体，以及其中所述光学分析设备包括：

至少一个光学检测器，其被布置为直接从管道内接收由所述等离子体发出的辐射；

处理器级，其用于处理来自所述至少一个光学检测器的输出信号，从而将输出信号的代表与一基准代表进行比较，并响应于一预定比较结果产生一故障信号，所述故障信号表明在装置内的故障；以及

控制级，其用于响应于所述故障信号来控制所述发生器的射频能量的产生。

2.根据权利要求1所述的组织处理装置，其中所述至少一个光学检测器通过在处理仪器的侧面中所形成的孔接收辐射。

3.根据权利要求1所述的组织处理装置，还包括至少一光学纤维，其用于将等离子体所发出的辐射导向至所述至少一个光学检测器。

4.根据任一上述权利要求所述的组织处理装置，其中所述处理器被布置为控制被供给至所述仪器的可电离气体的流动。

5.根据任一上述权利要求所述的组织处理装置，还包括一用户界面。

6.根据权利要求5所述的组织处理装置，还包括经由所述用户界面向使用者表明故障的装置。

7.根据任一上述权利要求所述的组织处理装置，其中所述控制装置被布置为，如果处理器接收到要求防止进一步的等离子体生产的具体故障信号，就防止进一步的等离子体生产。

8.根据权利要求1～6中任一权利要求所述的组织处理装置，其中所述控制装置被布置为，如果处理器接收到不要求防止等离子体生产的具体故障信号，就允许进一步的等离子体生产。

9.根据任一上述权利要求所述的组织处理装置，其中所述处理器级和控制级构成所述发生器的一部分。

10.根据任一上述权利要求所述的组织处理装置，其中所述处理器级被布置为，当来自于光学分析设备的输出信号表明在发生器开始向所述仪器传送射频能量之后一预定间隔内在所述导管内不存在辐射时，产生一故障信号。

11.根据任一上述权利要求所述的组织处理装置，其中所述处理器级被布置为，当来自于光学分析设备的输出信号表明在所述发生器产生射频能量的过程中所述导管内的辐射没有保持近似恒定时，产生一故障信号。

12.一种控制组织处理装置的方法，该组织处理装置具有射频(r.f.)发生器、处理仪器以及光学分析设备，所述仪器具有终止于一等离子体喷嘴的气体导管，所述仪器可连接至所述发生器并连接至一个可电离气源，当被供给以可电离气体并被发生器提供能量时，该仪器用来在其喷嘴处产生等离子流，该方法包括如下步骤：

从所述气体导管供给可电离气体；

运行所述发生器将一射频电压施加至与所述导管相联的一对电极，以在该导管内产生电场，从而在流经该导管的可电离气体中产生等离子体；

在至少一个光学检测器中接收由等离子体所发出的辐射，所述辐射是直接从所述导管内接收到的；

将从所述至少一个光学检测器中的输出信号的代表与一基准代表进行比较；

响应于预定比较结果产生一故障信号，该故障信号表明在装置内的故障；以及

响应于该故障信号，控制所述发生器的射频能量的产生。

13.根据权利要求12所述的方法，其中当所述比较步骤表明在所述发生器开始工作之后的预定时间间隔内、在导管内不存在辐射时，产生所述故障信号。

14.根据权利要求12或13所述的方法，其中当所述比较步骤表明在导管内的辐射没有在所述发生器的工作过程中保持近似恒定时，产生所述故障信号。

15.根据权利要求12～14中任一权利要求所述的方法，其中所述辐射由所述至少一个光学检测器经由至少一光学纤维接收到。