[发明专利]具有不透辐射标志物的自膨胀支架以及制造这种支架的方法

权利要求书

1.一种径向自膨胀支架(10)，其具有径向方向的厚度和端部环(11、11’)之间的轴向长度(L)，以便通过同轴导管输送系统进行输送，在所述支架从所述输送系统释放的过程中，所述同轴导管输送系统的一部分推动所述支架的一端，而从所述支架的远离管腔表面周围收回外壳，于是所述支架从径向压缩状态膨胀成径向膨胀状态，

待推动的所述端部环(11)具有圆周，多个间隔的弯折区(12)分布在所述圆周中，所选择的弯折区(12’)承载不透辐射标志物(14)，

其特征在于：

所述标志物成形，并位于所选择的弯折区上，从而在所述支架释放过程中使施加于所述端部环上的压缩应力分配在所述标志物和不承载标志物的所述弯折区之间。

2.如权利要求1所述的支架，其中，所述支架包括沿其轴向长度布置的多个环形物(16)，所述环形物在环形物端部间互连并具有分布在所述环形物端部的圆周中的多个弯折区(12”)，每个所述环形物端部比所述支架的端部环包括更多的弯折区。

3.如权利要求2所述的支架，其中，不承载标志物的所述支架的端部环的弯折区比分布在所述环形物端部的圆周中的弯折区具有更大的平行于所述支架的长轴的轴向长度。

4.如权利要求2或3所述的支架，其中，不承载标志物的所述支架的端部环的弯折区比分布在所述环形物端部的圆周中的弯折区具有更小的圆周范围。

5.如前述权利要求中的任一项所述的支架，其中，所述标志物在胶接口粘合于所述弯折区。

6.如权利要求1至4中的任一项所述的支架，其中，所述标志物通过焊接附着于所述弯折区。

7.如前述权利要求中的任一项所述的支架，其中，承载标志物的所述弯折区与不承载标志物的所述弯折区具有不同的形状。

8.如前述权利要求中的任一项所述的支架，其中，承载标志物的所述弯折区与不承载标志物的所述弯折区具有不同的尺寸。

9.如前述权利要求中的任一项所述的支架，其中，每个弯折区为具有平行于所述支架的长轴的轴向长度的杆，其中，承载标志物的所述弯折区杆比不承载标志物的所述弯折区杆具有更小的长度。

10.如前述权利要求中的任一项所述的支架，其中，所述标志物和所述弯折区具有相同的厚度。

11.如前述权利要求中的任一项所述的支架，其中，每个标志物比不承载标志物的每个弯折区对着所述端部环的圆周的更大的弧。

12.如前述权利要求中的任一项所述的支架，其中，所述支架由镍钛形状记忆合金制成。

13.如前述权利要求中的任一项所述的支架，其中，所述不透辐射标志物由钽、金或由镍、钛和第三种不透辐射金属制成的三元合金制成。

14.如前述权利要求中的任一项所述的支架，其中，在所述支架的径向压缩状态下，所述标志物不轴向地延伸至不承载标志物的所述弯折区之外。

15.如前述权利要求中的任一项所述的支架，其中，在所述支架的径向压缩状态下，在所述支架从所述输送系统释放的过程中，所述标志物和不承载标志物的所述弯折区都暴露于所述支架的端部环，以直接接收来自所述输送系统的推动部分的推力。

16.如前述权利要求中的任一项所述的支架，其中，在所述支架的径向压缩状态下，所述标志物的外围部分放置在相邻的弯折区上，从而使由所述输送系统在所述支架的释放过程中施加于所述标志物上的压缩应力通过所述标志物传递到所述相邻的弯折区。

17.如权利要求16所述的支架，其中，所述标志物轴向地高于不承载标志物的所述弯折区。

18.如前述权利要求中的任一项所述的支架，所述支架包括延伸至承载不透辐射标志物的每个弯折区的整个宽度并且位于所述弯折区与所述标志物之间的焊接区。

19.一种将不透辐射标志物固定于径向自膨胀支架的弯折区的方法，其中，所述标志物推进到相对于所述弯折区的固定位置内，然后在所述弯折区和所述标志物之间的焊接区焊接于所述弯折区，

其特征在于：

所述标志物和弯折区到所述固定位置的相对运动，不使元件相对于所述支架的纵向轴线、在径向方向运动。