[发明专利]光波导的制造方法以及由该制造方法所得到的光波导有效
申请号: | 200880107301.7 | 申请日: | 2008-09-18 |
公开(公告)号: | CN101802667A | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | 牧野龙也;山口正利;高桥敦之 | 申请(专利权)人: | 日立化成工业株式会社 |
主分类号: | G02B6/13 | 分类号: | G02B6/13;G02B6/12 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 波导 制造 方法 以及 得到 | ||
技术领域
本发明涉及光波导的制造方法以及光波导,特别涉及包括在基材上形成感 光性树脂层的工序,曝光所希望图案的工序,以及使用碱性显影液进行显影的 工序的光波导的制造方法以及由该制造方法所得到的光波导。
背景技术
近年来,就电子元件间或配线基板间的高速·高密度信号传送来说,在通 过以往的电气配线进行的传送中,信号的相互干涉或衰减形成了障碍,并开始 显现出高速·高密度化的界限。为了打破该界限,人们研究了使用光来连接电 子元件或配线基板的技术,即所谓的光互连。作为光的传输通路,从加工容易 度、低成本、配线自由度高,并且可以高密度化的观点考虑,聚合物光波导正 受到关注。
作为聚合物光波导的形态,认为在假设应用于光电混载基板的玻璃环氧树 脂基板上制造的类型、或假设板相互连接的不具有硬支持基板的挠性类型是适 合。
作为简单并高精度形成光波导的方法之一,已知有通过曝光·显影形成芯 图案的方法。此处,曝光步骤是使光照射部分的感光性树脂三维交联而不溶解 的工序,显影步骤是使未曝光部分,即未反应部分的感光性树脂溶解在显影液 中而除去的工序。
以往,已知有使用有机溶剂作为显影液的方法(例如,参照专利文献1), 并且从显影步骤的安全性和环境负荷的观点考虑,还提出了使用碱性显影液进 行显影的方法(例如,参照专利文献2和3)。
为了使碱显影步骤所适用的光波导形成材料,可溶于碱性显影液,在其中 导入了羧基、酚性羟基等显示酸性的官能基。因此,即使对于因曝光而不溶解 的芯图案,其酸性官能基也由于碱性显影液而被中和,形成盐。特别是在使用 含有碳酸钠、碳酸钾、氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属化合物或氢氧化四甲基铵 等有机碱所形成的碱性显影液时,生成的1价盐存在有化学不稳定的倾向。
就残存有不稳定盐的芯图案来说,其内部形成了不均匀的结构,因此不仅 从高透明性(低光传输损耗)观点考虑是不优选的,而且从光波导的可靠性观 点考虑也是不优选的。
专利文献1:日本特开昭63-81301号公报
专利文献2:日本特开平6-258537号公报
专利文献3:日本特开2003-195079号公报
发明内容
本发明目的在于解决所述问题,提供一种透明性和可靠性优异的光波导的 制造方法以及由该制造方法所制造的光波导。
本发明人等反复进行深入研究,结果发现,通过在显影工序和/或显影后 的洗涤工序中含有2价以上的金属离子,或者通过在使用碱性显影液显影后进 行用酸性水溶液洗涤的工序而形成光波导,可以解决所述问题。
也就是说,本发明提供
(1)一种光波导的制造方法,其具有以下工序:在基材上形成由感光性 树脂组合物所形成的感光性树脂层的工序,曝光所希望图案的工序,以及使用 含有2价以上金属离子的碱性显影液进行显影的工序;
(2)一种光波导的制造方法,其具有以下工序:在基材上形成由感光性 树脂组合物所形成的感光性树脂层的工序,曝光所希望图案的工序,使用碱性 显影液进行显影的工序,以及使用含有2价以上金属离子的洗涤液或酸性水溶 液进行洗涤的工序;以及
(3)如上述(2)所述的光波导的制造方法,其中在所述显影工序的碱性 显影液中含有2价以上的金属离子。
根据本发明的制造方法,可以有效地将芯图案内残存的不稳定1价盐转变 为稳定的2价以上的盐,或者可以有效地将其转变回酸性官能基,因此能够以 高生产率得到透明性和可靠性优异的光波导。
附图的简单说明
[图1]表示本发明所实施的回流试验中回流炉内的温度曲线图。
实施发明的最佳方式
以下,对本发明的光波导的制造方法及光波导进行详细说明。
本发明的光波导的制造方法,至少包括在基材上形成由感光性树脂组合物 所形成的感光性树脂层的工序、曝光所希望图案的工序、使用碱性显影液进行 显影的工序,并根据需要包括洗涤工序。
本发明的光波导的制造方法,特征在于在显影工序和显影后的洗涤工序的 至少一个工序中含有2价以上的金属离子,或者是在碱显影后使用酸性水溶液 进行洗涤。
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