[发明专利]印刷电路用铜箔及覆铜箔层压板有效

专利信息
申请号: 200880109496.9 申请日: 2008-09-12
公开(公告)号: CN101809206A 公开(公告)日: 2010-08-18
发明(设计)人: 樋口直树 申请(专利权)人: 日矿金属株式会社
主分类号: C25D7/06 分类号: C25D7/06;B32B15/08;C23C28/00;C25D9/08;H05K3/00;H05K3/38
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 樊卫民;郭国清
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 印刷电路 铜箔 层压板
【权利要求书】:

1.一种印刷电路用铜箔,在铜箔的表面具有通过铜-钴-镍合金镀 形成的粗化处理层、在该粗化处理层上形成的钴-镍合金镀层及在该钴- 镍合金镀层上形成的锌-镍合金镀层,其特征在于,

所述钴-镍合金镀层中钴的比率在0.60~0.66的范围,

所述锌-镍合金镀层的总量在150~500μg/dm2的范围,镍量在 50μg/dm2以上的范围,且镍的比率在0.16~0.24的范围,

对使用所述印刷电路用铜箔在基板上形成的铜箔电路,使用 H2SO4:10重量%、H2O2:2重量%的蚀刻水溶液进行软蚀刻时,铜箔 电路边缘部的渗透量为9μm以下。

2.如权利要求1所述的印刷电路用铜箔,其特征在于,所述渗透 量为5μm以下。

3.如权利要求1或2所述的印刷电路用铜箔,其特征在于,在所 述锌-镍合金镀层上具有防锈处理层。

4.如权利要求1或2所述的印刷电路用铜箔,其特征在于,防锈 处理层为铬氧化物的单一膜处理层、或者铬氧化物与锌和/或锌氧化物 的混合膜处理层。

5.如权利要求1或2所述的印刷电路用铜箔,其特征在于,在所 述混合膜处理层上还具有硅烷偶联剂层。

6.如权利要求1或2所述的印刷电路用铜箔,其特征在于,所述 印刷电路用铜箔中,在铜箔的表面具有通过铜-钴-镍合金镀形成的、附 着量为铜15~40mg/dm2-钴100~3000μg/dm2-镍100~1000μg/dm2的粗化 处理层。

7.如权利要求1或2所述的印刷电路用铜箔,其特征在于,所述 钴-镍合金镀层中,钴的附着量为200~3000μg/dm2,且钴的比率为60~66 质量%。

8.一种覆铜箔层压板,不通过胶粘剂而通过热压接使权利要求 1~7中任一项所述的印刷电路用铜箔与树脂基板接合而得到。

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