[发明专利]亲水性多孔基底

权利要求书

1.一种制造功能化基底的方法，所述方法包括以下步骤：

1)提供多孔基体基底，该多孔基体基底具有间隙的和外部的表 面；

2)用第一浸透溶液浸透所述多孔基体基底以形成吸液的多孔基 体基底，所述第一浸透溶液包括：(a)具有丙烯酸酯基团以及光引发剂 基团的至少一种接枝单体以及(b)具有至少一个丙烯酸酯基团以及至少 一个另外的烯键式不饱和的自由基聚合型基团的一种或多种单体；以 及任选的(c)具有至少一个烯键式不饱和的自由基聚合型基团以及亲水 基团的一种或多种另外的单体；其中(b)或(c)单体中的至少一者是亲水 性的，

3)将所述吸液的多孔基体基底暴露于受控量的电子束辐射中， 以便形成第一功能化基底，所述第一功能化基底包括连接在所述多孔 基体基底的表面上的接枝的光引发剂基团，以及

4)将包括接枝的光引发剂基团的多孔基体基底暴露于受控量的 UV辐射中，以交联剩余的烯键式不饱和的自由基聚合型基团，

其中在所述浸透溶液中，具有丙烯酸酯基团以及光引发剂基团的 至少一种接枝单体(a)相对于所述单体(b)和(c)的总重量的重量百分比为 至少0.01%，且不超过2.5%。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述单体(b)包括聚环氧烷二 （甲基）丙烯酸酯。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述单体(b)包括用于接枝到 所述多孔基体基底上的第一丙烯酸酯基团以及用于随后的UV交联的 第二甲基丙烯酸酯基团。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一浸透溶液包括(c)具 有至少一个烯键式不饱和自由基聚合型基团以及亲水基团的一种或多 种另外的单体。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述步骤3）包括将所述吸 液的多孔基体基底暴露于剂量小于10kGy的受控量的电子束辐射。

6.一种制造功能化基底的方法，所述方法包括以下步骤：

1)提供多孔基体基底，其具有间隙的和外部的表面；

2)用第一浸透溶液浸透所述多孔基体基底以形成吸液的多孔基 体基底，所述第一浸透溶液包括(a)具有丙烯酸酯基团以及光引发剂基 团的至少一种接枝单体；

3)将所述吸液的多孔基体基底暴露于受控量的电子束辐射中， 以便形成第一功能化基底，所述第一功能化基底包括连接在所述多孔 基体基底的表面上的接枝的光引发剂基团；以及

4)用第二浸透溶液浸透所述包括接枝的光引发剂基团的第一功 能化基底，所述第二浸透溶液包括：(b)具有至少一个丙烯酸酯基团以 及至少一个另外的烯键式不饱和的自由基聚合型基团的一种或多种单 体；以及任选的(c)具有至少一个烯键式不饱和的自由基聚合型基团以 及亲水基团的一种或多种另外的单体；其中(b)或(c)单体中的至少一者 是亲水性的；

5)将所述包括接枝的光引发剂基团的吸液的多孔基体基底暴露 于受控量的UV辐射中，以交联剩余的烯键式不饱和的自由基聚合型基 团，

其中在所述浸透溶液中，具有丙烯酸酯基团以及光引发剂基团的 至少一种接枝单体(a)相对于所述单体(b)和(c)的总重量的重量百分比为 至少0.01%，且不超过2.5%。