[发明专利]亲水性多孔基底

说明书

技术领域

本公开内容涉及亲水性多孔基底以及用于制备该基底的方法。

背景技术

本领域中需要具有增强的亲水性的多孔聚合物基底。此外，在本 领域中需要用于由疏水性聚合物制造具有增强的亲水性的聚合物基底 的方法。

发明内容

本发明涉及亲水基底以及制造亲水基底的方法。更具体地讲，亲 水基底包括已经被改性以提供必要亲水性的疏水性多孔基体基底。

提供了一种制造亲水基底的方法。在一些实施例中，该方法包括：

1)提供具有间隙的和外部的表面的多孔基体基底；

2)用第一溶液浸透多孔基底以形成吸液的多孔基底，该第一溶 液包括：(a)具有丙烯酸酯基团以及光引发剂基团的至少一种接枝单体 以及(b)具有至少一个丙烯酸酯基团以及至少一个另外的烯键式不饱和 的自由基聚合型基团的一种或多种单体；以及任选的(c)具有至少一个 自由基聚合型基团以及亲水基团的一种或多种另外的单体；其中(b)或 (c)单体中的至少一者是亲水性的。

3)将吸液的多孔基体基底暴露于受控量的电子束辐射中，以便 形成第一功能化基底，该第一功能化基底包括连接在该多孔基体基底 的表面上的接枝的光引发剂基团，并且

4)将该包括接枝的光引发剂基团的多孔基体基底暴露于受控量 的UV辐射中，以聚合或交联剩余的烯键式不饱和的自由基聚合型基 团。

提供了一种制品，该制品包括(a)第一接枝物质，其包括具有丙烯 酸酯基团以及光引发剂基团的单体与该多孔基体基底的表面在暴露于 电子束和UV辐射时的反应产物；以及(b)第二接枝物质，其包括具有 至少一个丙烯酸酯基团以及至少一个另外的烯键式不饱和的自由基聚 合型基团的单体与该多孔基体基底的表面在暴露于电子束和UV辐射 时的反应产物；以及任选的(c)第三接枝物质，其包括具有至少一个烯 键式不饱和的自由基聚合型基团以及亲水基团的多种单体与该多孔基 体基底的表面在暴露于电子束和UV辐射时的反应产物。(b)或(c)单体 中的至少一者是亲水性的。仍然未接枝到该多孔基体基底上的任何游 离烯键式不饱和基团可以在随后暴露于UV辐射时交联。

参照该方法和制品，光引发剂单体(a)的丙烯酸酯基团中的全部或 部分在电子束辐射时将被接枝到该多孔基体基底的表面上。未反应的 光引发剂单体可以随后在暴露于UV辐射时被结合到该增长的聚合物 链中。剩余的(b)和(c)单体可以直接接枝到这些表面上(例如通过丙烯 酸酯基团的接枝)，或者通过在暴露于UV辐射时被结合到该增长的聚 合物链中而被间接接枝。

在研究了本发明所公开的实施例的以下具体实施方式和所附权利 要求后，本发明的这些特征和优点以及其他特征和优点将变得显而易 见。

附图说明

图1示出了用于制造本发明的亲水性基底的示例性方法步骤。

具体实施方式

在本发明的制品和方法中，通过两步方法提供了亲水性多孔制品， 该两步方法为多种单体的电子束接枝以及游离的未接枝的烯键式不饱 和的聚合型基团的随后的UV交联。

与在表面改性之前的多孔基体基底相比，该功能化基底通常具有 亲水性。该亲水性多孔基底包括多个组分，包括(但不限于)：(1)具 有间隙的和外部的表面的多孔基底以及(2)以下组分的UV引发的反应 产物：(a)从该多孔基体基底的表面延伸的接枝光引发剂基团，(b)具有 至少一个丙烯酸酯基团以及至少一个另外的自由基聚合型基团的一种 或多种单体；以及任选的(c)具有至少一个自由基聚合型基团以及一个 亲水性基团的一种或多种另外的单体；其中(b)或(c)单体中的至少一者 是亲水性的。

合适的多孔基体基底包括(但不限于)：多孔膜、多孔非织造网 以及多孔纤维。该多孔基体基底可以由任何合适的热塑性聚合物材料 形成。合适的聚合物材料包括(但不限于)：聚烯烃类、聚(异戊二烯 类)、聚(丁二烯类)、氟化聚合物类、氯化聚合物类、聚酰胺类、聚酰 亚胺类、聚醚类、聚(醚砜类)、聚(砜类)、聚(乙酸乙烯酯类)、乙酸乙 烯酯的共聚物类、聚(磷腈类)、聚(乙烯基酯类)、聚(乙烯基醚类)、聚(乙 烯醇类)以及聚(碳酸酯类)。