[发明专利]在其分子结构中包括锚定基团的染料有效
申请号: | 200880112883.8 | 申请日: | 2008-10-27 |
公开(公告)号: | CN101836274A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
发明(设计)人: | G·富尔曼;G·内尔斯;A·巴梅迪齐莱;安田章夫 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | H01G9/20 | 分类号: | H01G9/20;H01L51/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 万雪松;林森 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分子结构 包括 锚定 基团 染料 | ||
1.在其分子结构中包括锚定基团的染料,所述锚定基团能使所述染料共价偶联到表面,例如纳米多孔半导体层的表面上,所述锚定基团由式1表示
(式1)
其中所述染料的所述分子结构内的所述锚定基团的连接是在上式中用星号标记的末端碳处,其中
G选自-COOH、-SO3H、-PO3H2、-BO2H2、-SH、-OH、-NH2,优选-COOH,
其中A选自H、-CN、-NO2、-COOR、-COSR、-COR、-CSR、-NCS、-CF3、-CONR2、-OCF3、C6H5-mFm,其中m=1-5,
R是H或通式-CnH2n+1的任何直链或支链烷基链,n=0-12,优选0-4,或任何取代或未取代的苯基或联苯基。
2.根据权利要求1的染料,由式2表示
(式2)
其中所述发色团是能够在可见光和/或红外线波长范围内,优选在300-1200纳米范围或其子范围,例如范围300-580纳米、580-850纳米、850-1200纳米,更优选580-850纳米中的一个或几个范围内吸收的分子,包括有机发色团和金属络合物,
且其中G和A如权利要求1中所定义。
3.根据权利要求2的染料,其中所述共轭体系由式3中所示的部分或式3所示的任何部分的组合表示
(式3)
其中,n1和n2=0-12,优选n1=0-3和n2=1-7,
其中R3选自
H、-(CH2)nCH3、-(CH2)n-COOR、-(CH2)n-OR、-(CH2)n-SR、-(CH2)n-NR2、-((CH2)p-O)n-CH3,
p=1-4,n=0-12,
且R1选自
卤素,如Cl、Br、F、I,或NO2、NH2、CN、SO3H、OH、H、-(CH2)nCH3、-(CH2)n-COOR、-(CH2)n-OR、-(CH2)n-SR、-(CH2)n-NR2、-((CH2)p-O)n-CH3,
p=1-4,n=0-12,
R是H、通式-CnH2n+1的任何直链或支链烷基链,n=0-12,优选0-4,或任何取代或未取代的苯基或联苯基,
且其中X1和Y1在各处独立地选自O、S、NR。
4.根据权利要求1的染料,由式4表示
(式4)
其中所述发色团是能够在可见光和/或红外线波长范围内,优选在300-1200纳米范围或其子范围内吸收的分子,包括有机发色团和金属络合物,
且其中G和A如权利要求1中所定义。
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