[发明专利]一次写入光学记录介质及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一次写入光学记录介质。具体地，本发明涉及具有无机记录层的一次写入光学记录介质及其制造方法。

背景技术

至今，CD(光盘)、DVD(数字通用光盘)等已经引领光学记录介质的市场。然而，近年来，随着高清电视的实现和通过PC(个人计算机)处理的数据量的快速增加，期望光学记录介质具有更大容量。为了满足这种需求，已经出现了诸如BD(Blu-ray光盘(注册商标))和HD-DVD(高清晰度数字通用光盘)的对应于蓝色激光的光学记录介质，并且已经建立了具有大容量的光学记录介质的新市场。

可记录光学记录介质包括：以CD-RW(可重写光盘)和DVD±RW(数字通用光盘±可重写，Digital Versatile Disc±Rewritable)为代表的可重写光学记录介质，以及以CD-R(可记录光盘)和DVD-R(可记录数字通用光盘)为代表的一次写入光学记录介质。特别地，后者光学记录介质已经对低价介质的市场扩大的做出了很大的贡献。因此，在对应于蓝色激光的大容量光学记录介质中，为了扩大市场，认为有必要降低一次写入光学记录介质的价格。

在一次写入光学记录介质中，根据标准，无机材料和有机材料都被允许作为记录材料。包括有机材料的一次写入光学记录介质的优势在于可以以低成本通过旋涂方法来进行生产。另一方面，包括无机材料的一次写入光学记录介质的优势在于其具有很好的再生稳定性和推挽(push-pull)信号特性，但其劣势在于需要大的溅射装置。因此，为了使得包括无机材料的一次写入光学记录介质在价格方面可以与包括有机材料的光学记录介质相竞争，有必要减少用于生产装置的初始投资并且提高每张光盘的节拍(takt)以有效地生产记录介质。

用于解决以上问题的最有效的方法的实例是减少组成记录膜的层数以减少膜沉积室的数量，因此，减少了用于溅射装置的初始投资并且减少了生产节拍(production takt)。然而，即使仅减少了层数，当膜厚度大并且使用了膜沉积率低的材料时，生产节拍也增大，这实际上可以导致成本增加。

至今，作为包括无机材料的一次写入光学记录介质的保护层的材料，主要使用了诸如SiN和ZnS-SiO₂的透明介电材料(例如参见日本未审查专利申请公开第2003-59106号)。尽管SiN和ZnS-SiO₂具有膜沉积率高因此生产率良好的优势，但是它们却存在记录数据的存储特性(存储可靠性)差的问题。在除上述材料以外的介电材料中，存在具有高存储可靠性的介电材料。然而，需要通过射频(RF)溅射来沉积这些材料，从而，存在膜沉积率非常低并且生产率低的问题。因此，很难同时确保存储可靠性和生产率。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种具有良好存储可靠性和生产率的一次写入光学记录介质及其制造方法。

作为为了解决以上问题的深入研究的结果，本发明的发明人已经发现，通过使用包含氧化铟和氧化锡作为主要成分的材料来作为保护层的材料，可以实现高存储可靠性并且可以获得高的生产率，并且本发明的发明人已经对其进行了实验性地验证，从而得到了本发明。

为了解决以上问题，本申请的第一发明为一次写入光学记录介质，包括：

无机记录层；以及

保护层，包含氧化铟和氧化锡作为主要成分，该保护层被设置在无机记录层的至少一个表面上。

本申请的第二发明为一次写入光学记录介质，至少包括：

第一记录层和第二记录层，

其中，第二记录层包括无机记录层，以及

保护层，包含氧化铟和氧化锡作为主要成分，该保护层被设置在无机记录层的至少一个表面上，并且

将信息信号记录至第一记录层和/或从第一记录层再生信息信号通过利用激光束经由第二记录层照射第一记录层来执行。

本申请的第三发明为一次写入光学记录介质的制造方法，包括：

形成无机记录层的步骤；以及

形成包含氧化铟和氧化锡作为主要成分的保护层的步骤，

其中，将保护层设置在无机记录层的至少一个表面上。

在本申请的发明中，由于将包含氧化铟和氧化锡作为主要成分的保护层设置在无机记录层的至少一个表面上，所以可以获得良好的存储可靠性。此外，包含氧化铟和氧化锡作为主要成分的材料具有高导电性，因此，可以通过直流(DC)溅射方法来执行膜沉积并且膜沉积率高。因此，可以改善生产率。

如上所述，根据本发明，可以同时满足存储可靠性和高生产率这两者。

附图说明