[发明专利]个人护理组合物有效
| 申请号： | 200880117203.1 | 申请日： | 2008-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN101868221A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | J·S·伯里;R·L·埃文斯;C·A·霍尔;E·科施德尔;C·麦凯 | 申请（专利权）人： | 荷兰联合利华有限公司 |
| 主分类号： | A61K8/34 | 分类号： | A61K8/34;A61K8/36;A61K8/49;A61Q5/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈文平;徐志明 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 个人 护理 组合 | ||
1.一种含低共熔混合物的头发/头皮护理组合物，所述低共熔混合物包含去头屑剂。
2.根据前述任一权利要求所述的头发/头皮护理组合物，其中所述低共熔混合物的去头屑剂为基于唑的。
3.根据权利要求2所述头发/头皮护理组合物，其中所述去头屑剂为酮康唑。
4.根据前述任一权利要求所述的头发/头皮护理组合物，其中所述低共熔混合物为头发三元系统。
5.根据前述任一权利要求所述的头发/头皮护理水性组合物，其中所述低共熔混合物进一步包含薄荷醇。
6.根据前述任一权利要求所述的头发/头皮护理组合物，其中所述低共熔混合物进一步包含有机酸。
7.根据权利要求6所述头发/头皮护理组合物，其中所述有机酸选自水杨酸、苯甲酸及其混合物。
8.根据权利要求6所述头发/头皮护理组合物，其中低共熔混合物中唑基去头屑剂/薄荷醇/有机酸的摩尔比为0.1∶1∶1至2∶1∶1。
9.根据前述任一权利要求所述的头发/头皮护理组合物，其中所述低共熔混合物的熔点低于45℃。
10.根据前述任一权利要求所述的头发/头皮护理组合物，其中所述低共熔混合物的含量为总组合物的0.01至5重量％。
11.根据前述任一权利要求所述的头发/头皮护理组合物，其进一步包含占总组合物至少2重量％的表面活性剂。
12.根据权利要求11所述头发/头皮护理组合物，其中所述表面活性剂为阴离子表面活性剂。
13.一种处理头皮或头发的方法，其包括将含低共熔混合物的组合物应用到头发上的步骤，其中所述低共熔混合物包含去头屑剂。
14.一种将去头屑剂沉着在头皮或皮肤上的方法，其中所述去头屑剂为低共熔混合物的形式。
15.一种减轻头皮屑的方法，包括将权利要求1-12中任一项所述的组合物应用到头发和/或头皮上的步骤。
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