[发明专利]个人护理组合物

说明书

技术领域

本发明涉及头发/头皮护理组合物，特别涉及头发和/或头皮的护理组合物。本发明还涉及这些组合物用于治疗和/或预防炎性皮肤状况(例如头皮发痒和头皮屑)的用途。

背景技术

许多头发/头皮护理组合物被用于将有益的物质沉着于皮肤/头皮或头发上，但是这些有益物质的有效沉积可能产生一个问题，特别是在洗去型组合物中。

低共熔混合物已经在WO 98/51283中被用于辅助药理活性药物的经皮转运。

活性物质的低共熔混合物(例如局部麻醉混合物)在WO2005/018530中被描述用于药物和化妆品组合物。这样的混合物被认为能够提供改进的皮肤穿透特性。

本发明人发现，某些低共熔混合物可用于增强有益物质的沉着，特别是预防出现头皮屑症状(例如头皮发痒和剥落)的有益物质。

发明内容

本发明提供了含低共熔混合物的头发/头皮护理组合物，该低共熔混合物包含去头屑剂。本发明还描述了处理头皮或头发的方法，其包括将含低共熔混合物的组合物应用到头发上的步骤，其中该低共熔混合物包含去头屑剂。

另一方面，本发明涉及沉着去头屑剂到在头皮或皮肤上的方法，其中该去头屑剂为低共熔混合物的形式。

本发明还涉及减轻头皮屑的方法，包括如上所述的将组合物应用到头发和/或头皮上的步骤。

两种或多种形成低共熔混合物的固体的低共熔混合物在固体均匀混合之后，在高于较高熔解组分的熔点时会形成均一的液相。熔点相对于形成低共熔混合物的两种固体的相对组成的曲线显示出两条交叉线之间的最低点，在该点处均一的液相与各相应的均一固体相共存。该点被称为低共熔点或低共熔温度。

本发明涉及含去头屑剂的成分的低共熔混合物。

优选地，该组合物包含薄荷醇。薄荷醇优选占总组合物的0.001-5重量％，更优选为0.01-2重量％。

优选地，低共熔混合物进一步包含占总组合物0.01％-30％重量、更优选0.05％-10％重量、最优选0.1-2％重量的去头屑剂。去头屑剂为具有去头屑活性的化合物，且典型地为抗微生物剂，优选为抗真菌剂。

抗真菌剂典型地显示大约50mg/ml或更低的抗马拉色菌属(Malassezia)的最小抑制浓度。

合适的去头屑剂包括选自酮康唑、氯咪巴唑(climbazole)、羟甲辛吡酮(octopirox)、巯氧吡啶锌及其混合物的化合物。

优选的抗真菌剂为基于唑的化合物。特别重要的为酮康唑和氯咪巴唑，酮康唑为特别优选的。当用在低共熔混合物中时，这些去头屑剂具有特别良好的抗微生物效果。

在低共熔混合物中有利地使用的进一步组分为有机酸。优选的有机酸为乳酸、羟基乙酸、羟酸(特别是柠檬酸、酒石酸、苹果酸)、脂肪酸、半乳糖醛酸、葡糖酸、氨基酸、羟基辛酸、己二酸、苯甲酸及羟基苯甲酸和二羟基苯甲酸。

特别优选的有机酸选自水杨酸、苯甲酸及其混合物。

作为上述有机酸的替代物，低共熔混合物可包含儿茶酚和/或白杨素。

含三元系统的低共熔混合物是特别优选的。

优选的是：低共熔混合物中的唑基去头屑剂/薄荷醇/有机酸的摩尔比优选为0.1∶1∶1至2∶1∶1，更优选为0.1∶1∶1至1∶1∶1。

优选的低共熔混合物增加了产品配方中活性物质的溶解性和沉着效率。含去头屑剂的低共熔混合物提供了增加的生物利用度和增加的效率(杀死马拉色菌)。

本发明的组合物通常为头发护理/头皮护理组合物。它们可被配制成为透明或不透明的乳剂、洗液、乳膏、糊剂或凝胶。

本发明的头发和/或头皮护理组合物可为洗去型产品或免洗型产品。免洗型产品在使用后不希望立即从使用者的头发和/或头皮洗去(即在应用组合物后的至少2小时内，优选为至少4小时内)。免洗型产品包括意图用于头发和/或头皮局部应用的例如洗液、乳膏和发油。洗去型产品在使用后希望基本上从使用者的头发和/或头皮洗去。洗去型组合物包括洗发剂和头发调理剂，以及希望在洗去之前在头发和/或头皮上停留最长半小时、优选5分钟的头发和/或头皮处理产品。

优选的产品形式为洗发剂和调理剂。洗去型组合物为优选的。

本发明的洗发剂组合物通常包含一种或多种化妆品可接受的且适于局部应用于头发的阴离子清洁表面活性剂。

阴离子清洁表面活性剂