[发明专利]镀膜设备的框架式真空室有效

专利信息
申请号: 200880118008.0 申请日: 2008-11-01
公开(公告)号: CN101878320A 公开(公告)日: 2010-11-03
发明(设计)人: F·朱恩德;M·迈耶;S·克拉斯尼泽;J·格维亨伯格 申请(专利权)人: 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫)
主分类号: C23C14/22 分类号: C23C14/22;C23C16/44
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 赵辛
地址: 瑞士特*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要:
搜索关键词: 镀膜 设备 框架 真空
【权利要求书】:

1.镀膜设备的真空室布置有各种功能元件,该室包括一个室框架,镶嵌板以机械方式可拆卸地和密封地嵌入该框架中,且其中的一些镶嵌板支承功能元件,其特征为,该室框架包括至少一个用整块金属板成型的、带有板条的底面,这些板条在连接区这样弯折到该底面上,使它们构成室框架的支撑板。

2.按权利要求1的真空室,其特征为,由真空室包围的体积的表面积被镶嵌板占有至少40%,特别是优先至少50%。

3.按前述权利要求任一项的真空室,其特征为,功能元件和镶嵌板用法兰连接,最好用镶嵌板上配置的抓钩可拆卸地连接。

4.按前述权利要求任一项的真空室,其特征为,由框架构成的至少两个、最好多个孔洞具有相同的几何形状,并由此至少两块、最好多块镶嵌板通过机械拆卸和固定能够交换它们的位置。

5.按前述权利要求任一项的真空室,其特征为,镶嵌板至少在与框架的连接区是平板。

6.按前述权利要求任一项的真空室,其特征为,框架相对于一根轴线具有n个对称性,其中n是大于2的整数,且镶嵌板按框架对称性的相应方式嵌入。

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