[发明专利]镀膜设备的框架式真空室

说明书

技术领域

本发明涉及一种真空室，特别是镀膜设备的真空室。

背景技术

业内熟知的PVD(物理汽相沉积)或CVD(化学汽相沉积)镀膜工艺例如是一种在真空条件下的镀膜方法。PVD是基本上基于物理沉积把材料镀覆在被镀工件上，而CVD则是基本上基于化学反应的镀膜方法。两种方法的共同点都是在高真空条件下(10^-3毫巴至10^-7毫巴)或超高真空条件下(10^-7毫巴至10^-12毫巴)进行。在本发明的范围内，真空泛指在一定容积内的流体状态具有低于10^-1毫巴的压力。

为了产生真空，通常要从密闭的容器中抽出流体。这种容器通常是用贵金属制成的整体箱体。这是为了防止可能的泄漏并为了产生高的真空。

DE 9404022论述了这种用整体箱体制成的常规真空室在每次进行更改时都会涉及较大的费用问题(拆开、焊接等等)。所以该文献建议真空室从一开始就不用整体制成，而是把功能平面(被镀工件、金属蒸汽源和泵平面)分成法兰连接的区段。此外，在将来扩建时，上端和下端可用法兰连接的盖来实现。

虽然把真空室分成法兰连接区段的这种方法对要进行的更改具有高度灵活性的优点，但这毕竟导致在更改时仍须进行静力计算，来确保用法兰连接的零部件组成的真空室具有所需的稳定性，以便承受与压差(室内与室外)有关的力。

所以这就需要真空室既可按简便而灵活的方式相对于功能元件进行更改，但同时又被设计成不论功能元件具体如何布置都能保证足够的稳定性。

发明内容

所以本发明的目的在于满足上述需要，即提出一种真空室，它既可按简便而灵活的方式相对于功能元件进行更改，但同时又被设计成不论功能元件具体如何布置都能保证其足够的稳定性。

根据本发明，这个目的是通过把真空室设计成可嵌入镶嵌板的框架结构来实现的。该框架构成真空室的稳定支架。在镶嵌板上可预先安装诸如泵、被镀工件或金属蒸汽源之类的附加部分。镶嵌板与框架以机械方式并按真空密封要求进行连接。其中为了制作多个不同的真空室，可把框架设计成许多标准件，并由此可廉价制作。在特殊用户要求的情况下，也不再需要对框架进行加工，因为完全可通过镶嵌板的匹配来满足用户的要求。在镶嵌板上预先安装诸如工件、金属蒸汽源或真空泵之类的功能元件，但也可相互从真空室到真空室用不同的方式设置观察孔。由于真空室的框架具有所需的稳定性，所以对这种方案来说无须每次进行真空室的静力计算。

附图说明

下面结合例子和附图来详细说明本发明。

图1表示本发明真空室的框架；

图2表示带有图1框架和安装有镶嵌板的本发明真空室；

图3表示带有容易打开的门的图2真空室；

图4a表示本发明真空室内部的一部分；

图4b表示从外面看去的相当于图4a的部分；

图5a表示本发明真空室的框架的一个冲裁件的前视图；

图5b表示相当于图5a冲裁件的横截面；

图5c表示本发明一个室的镶嵌板的前视图；

图5d表示图5c的相应横截面；

图5e表示框架冲裁件和图5c至5d所示冲裁件的镶嵌板的透视图；

图6a表示用一块料板切出的用于弯制框架组成部件的平面形状示意图；

图6b表示图6a的料板，其中已有两个板条向上弯成支撑板；

图6c表示连接图6b料板的顶盖；

图7表示框架断面一部分的一种结构型式，这种结构型式可在保持稳定性的情况下进行镶嵌板的简便的定心的嵌入；

图8a表示带孔的金属板，该金属板可以弯曲和构成真空室框架的蒙皮部分；

图8b表示带孔的金属板，它可弯曲和构成真空室框架的门的部分；

图9表示图8a和8b所示的金属板及其弯曲构成蒙皮框架的情况；

图10表示框架断面的一部分的一种结构型式，这种结构型式可在保持稳定性的情况下进行镶嵌板的简便的定心的嵌入。

具体实施方式