[发明专利]磁盘用玻璃基板、磁盘及磁盘的制造方法有效

专利信息
申请号: 200880119945.8 申请日: 2008-12-24
公开(公告)号: CN101896972A 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 橘内浩二;前田高志 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G11B5/73 分类号: G11B5/73;G11B5/84
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李洋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 磁盘 玻璃 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种磁盘用玻璃基板,其特征在于,在玻璃基板的比外周端靠中心部侧的表面任意选择了两个部位的各区域中,在各区域的表面形状中抽取形状波长为60~500μm波段的表面形状,将该表面形状的自乘平均平方根粗糙度Rq设为微小波动Rq时,所述各区域的微小波动Rq的差为0.02nm以下。

2.一种磁盘用玻璃基板,其特征在于,在玻璃基板的比外周端靠中心部侧的表面任意选择了两个部位的各区域中,在各区域的表面形状中抽取形状波长为60~500μm波段的表面形状,将该表面形状的自乘平均平方根粗糙度Rq设为微小波动Rq时,所述各区域的微小波动Rq的比为1.1以下。

3.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板,其特征在于,所述两个部位是盘的外周端部和记录再生区域的中心部。

4.如权利要求3所述的磁盘用玻璃基板,其特征在于,所述盘的外周端部是从盘外周端向盘中心方向1.0mm内侧的点、或者比该点位于内侧的区域。

5.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板,其特征在于,所述各区域是关于所选择的两个部位、各自按相同半径沿着圆周方向的两个区域。

6.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板,其特征在于,所述玻璃基板的外周端部形状是以主表面为基准面处于±30nm以内的范围的形状。

7.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板,其特征在于,降落高度为5nm以下。

8.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板,其特征在于,所述磁盘用玻璃基板是装载卸载式用的磁盘。

9.一种磁盘,其特征在于,在如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的表面至少形成有磁性层。

10.一种磁盘的制造方法,其特征在于,具有:

制造权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的工序,和

在所述磁盘用玻璃基板的表面至少形成磁性层的工序。

11.一种磁盘用玻璃基板,其特征在于,在玻璃基板的比外周端靠中心部侧的表面任意选择了两个部位的各区域中,在各区域的表面形状中抽取形状波长为60~500μm波段的表面形状,将该表面形状的自乘平均平方根粗糙度Rq设为微小波动Rq时,所述各区域的微小波动Rq的标准偏差的差为0.04nm以下。

12.一种磁盘用玻璃基板,其特征在于,在玻璃基板的比外周端靠中心部侧的表面任意选择了两个部位的各区域中,在各区域的表面形状中抽取形状波长为60~500μm波段的表面形状,将该表面形状的自乘平均平方根粗糙度Rq设为微小波动Rq时,所述各区域的微小波动Rq的标准偏差的比为1.1以下。

13.如权利要求11或12所述的磁盘用玻璃基板,其特征在于,所述两个部位是盘的外周端部和记录再生区域的中心部。

14.如权利要求13所述的磁盘用玻璃基板,其特征在于,所述盘的外周端部是从盘外周端向盘中心方向1.0mm内侧的点、或者比该点位于内侧的区域。

15.如权利要求11或12所述的磁盘用玻璃基板,其特征在于,所述各区域是关于所选择的两个部位、各自按相同半径沿着圆周方向的两个区域。

16.如权利要求11或12所述的磁盘用玻璃基板,其特征在于,所述玻璃基板的外周端部形状是以主表面为基准面处于±30nm以内的范围的形状。

17.如权利要求11或12所述的磁盘用玻璃基板,其特征在于,降落高度为5nm以下。

18.如权利要求11或12所述的磁盘用玻璃基板,其特征在于,所述磁盘用玻璃基板是装载卸载式用的磁盘。

19.一种磁盘,其特征在于,在如权利要求11或12所述的磁盘用玻璃基板的表面至少形成有磁性层。

20.一种磁盘的制造方法,其特征在于,具有:

制造权利要求11或12所述的磁盘用玻璃基板的工序,和

在所述磁盘用玻璃基板的表面至少形成磁性层的工序。

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