[发明专利]磁盘用玻璃基板、磁盘及磁盘的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及可进行高密度记录再生的磁盘用玻璃基板、磁盘及磁盘的制造方法。

背景技术

作为搭载在信息存储装置的信息记录媒体的一种，众所周知有搭载于硬盘(HDD)的磁盘。在磁盘中，近年来对提高记录容量的要求增强，高密度记录化或记录面积扩大成为当务之急。

作为可进行高密度记录的因素，必须使磁头相对磁盘的浮起高度尽量低，为此必须使磁盘表面更为平滑。

另外，为了扩大记录面积，必须保证主表面的平滑区域尽量大。但是，由于玻璃基板的研磨条件，在基板外周端部中，相对玻璃基板的主表面产生面下降的面松弛(面下垂)或相对主表面的面抬起(以下称为隆起)，在使磁头相对于具有这样形状的磁盘进行浮起行进时，由于磁头在面松弛或隆起的部位倾斜，磁头飞行变得不稳定，所以，有时会产生碰撞，另外，面松弛或隆起的部位成为记录面积扩大的障碍。

近年来，即使在磁盘为平滑的情况下，为了防止磁头的吸附，盛行开发在磁头上安装有衬垫的磁头、或可实现更低的浮起高度的LUL(Load/Unload：加载卸载)方式。在LUL方式的情况下，通常，磁盘表面是平滑的，磁头在磁盘停止时，在磁盘的外侧待机，在磁盘转动后，使用导向机构使磁头从盘外侧移动到盘面上而进行记录再生，所以，一般与CSS方式相比形成为低浮起行进。在LUL方式的情况下，为了保证磁头的浮起稳定性，必须对基板的外周端部形状进行比CSS方式更为严密的控制。在LUL方式的情况下，由于可进行磁头的低浮起行进，所以与CSS方式相比可实现高密度记录。

因此，为了实现由LUL方式形成的磁头的低浮起化，具有以下的发明(日本特开2004-265582(专利文献1))，即，为了具有能进行高密度记录的程度的充分平滑度、且能把记录面积扩大到周缘，把外周端部形状规定为预定值(例如规定相对于玻璃基板的主表面、面下降的面松弛(面下垂)等)。

专利文献1：日本特开2004-265582

但是，无论进行怎样的高精度研磨等来改进玻璃基板的外周端部形状，即，即使减小了面相对玻璃基板的主表面下降的面松弛(面下垂)或相对主表面的面抬起(隆起)，当使磁头相对于具有这样形状的磁盘浮起行进时，也还会产生磁头的运行不稳定、无法降低磁头的浮起高度的问题。对此以下进行详细说明。

首先，作为玻璃基板外周端部形状的指标(表示外周端部形状是否以主表面为基准面(零)处在±几个μm的范围的、外周端部形状的平坦性的指标)，例如图5所示，利用在直径为(半径32.5mm)的磁盘用玻璃基板的情况下、由连结从基板的中心起半径r＝29.9mm的点A和半径r＝31.5mm的点B这两点的直线a以及在该范围内的正方向、负方向各自的最大距离b、c中的大的一方表示的值，把该值称为(定义为)Duboff。

在Duboff比30nm大的过去的情况下，当使Duboff小时，外周端部位置的降落高度(タツチダウンハイト，TDH)能变小。与此相对，在Duboff为30nm以下的这次的情况下，如图15所示，在研究了Duboff与外周端部位置(半径r31.5mm的位置)的降落高度(TDH)的关系时，没发现关联。也就是，了解到，即使改进玻璃基板的外周端部形状，即即使减少面相对玻璃基板的主表面下降的面松弛(面下垂)、或相对主表面的面抬起(隆起)，也不能减小外周端部位置的降落高度(TDH)的(降落高度出现大的偏差)。

接着，在基板整个面中的微小波动(MW-Rq)(关于定义等在后叙述)的平均值比大的过去的情况下，以减小基板整个面中的微小波动(MW-Rq)的平均值、或内周TDH＜外周TDH为前提，减小外周端部的微小波动(MW-Rq)，从而减小了外周端部位置的降落高度(TDH)。与此相对，在基板整个面中的微小波动(MW-Rq)的平均值为(0.4nm)以下的这次的情况下，如图16所示，在研究了外周端部位置(半径r31.5mm的位置)的微小波动(MW-Rq)和外周端部位置(半径r31.5mm的位置)的降落高度(TDH)的关系时，没有发现关联。也就是，了解到，即使在玻璃基板的外周端部对微小波动进行改进(减小)，外周端部位置的降落高度(TDH)也不会变小(降落高度出现大的偏差)。

发明内容

本发明的目的是提出解决上述课题的手段。

本发明者研究该原因后了解到，在玻璃基板的表面任意选择两个部位的区域，在各区域测定的微小波动(关于定义等在后叙述)的差或比不满足某一规定关系时，不能实现磁头的低浮起化。