[发明专利]图像形成设备和泡沫涂敷装置有效
申请号: | 200880120648.5 | 申请日: | 2008-12-04 |
公开(公告)号: | CN101896348A | 公开(公告)日: | 2010-11-24 |
发明(设计)人: | 井本晋司;松本和悦;市村实纪;泉川学;加藤泰久;片野泰男;星野诚治;津田直明 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01;B05C11/10 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 吕静姝;杨暄 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 形成 设备 泡沫 装置 | ||
1.一种图像形成设备,其特征在于,包括:
图像形成单元,该图像形成单元在记录介质上形成图像;和
泡沫涂敷单元,该泡沫涂敷单元向记录介质或中间构件涂敷泡沫以将泡沫涂敷到所述记录介质,所述泡沫通过使液体和凝胶中的至少一种起泡沫来制备,所述泡沫涂敷单元包括:
泡沫形成单元,该泡沫形成单元形成泡沫;
涂敷单元,该涂敷单元将泡沫涂敷到所述记录介质或所述中间构件;和
供应单元,该供应单元从所述泡沫形成单元引进泡沫,并且通过供应口将所述泡沫供应到所述涂敷单元,其中
所述供应单元包含排出口,没有被供应到所述涂敷单元的泡沫通过所述排出口排出,并且
被引进到所述供应单元的泡沫的数量大于被供应到所述涂敷单元的泡沫的数量。
2.如权利要求1所述的图像形成设备,其特征在于,
当所述泡沫正在被排出时在所述供应单元上的所述排出口处的泡沫的流体阻力大于当所述泡沫正在被供应时在所述供应单元上的所述供应口处的泡沫的流体阻力。
3.如权利要求1或2所述的图像形成设备,其特征在于,进一步包括:
用于在所述泡沫正在被排出时改变在所述供应单元上的所述排出口处的泡沫的流体阻力的单元。
4.如权利要求1至3中的任何一项所述的图像形成设备,其特征在于,进一步包括:
用于在所述泡沫正在被供应时改变在所述供应单元上的所述供应口处的泡沫的流体阻力的单元。
5.如权利要求1至4中任何一个所述的图像形成设备,其特征在于,
所述排出口定位得比所述供应口低。
6.如权利要求1至5中任何一个所述的图像形成设备,其特征在于,
所述排出口相对于所述记录介质或所述中间构件的宽度方向被布置在所述涂敷单元的外面。
7.一种图像形成设备,其特征在于,包括:
图像形成单元,该图像形成单元在记录介质上形成图像;和
泡沫涂敷单元,该泡沫涂敷单元向记录介质或中间介质涂敷泡沫以将泡沫涂敷到所述记录介质,所述泡沫通过使液体形式和凝胶形式中的至少一种的处理液起泡沫而制备,所述泡沫涂敷单元包括:
涂敷单元,该涂敷单元涂敷所述泡沫;
通道,该通道收集剩余而没有被涂敷的多余泡沫;和
加热单元,该加热单元加热所述通道上的多余泡沫以使所述多余泡沫恢复为液态。
8.如权利要求7所述的图像形成设备,其特征在于,
所述加热单元执行第一模式或第二模式操作,其中,在所述第一模式操作中,所述加热单元加热所述多余泡沫;而在所述第二模式操作中,所述加热单元不加热所述多余泡沫。
9.如权利要求7或8所述的图像形成设备,其特征在于,进一步包括:
泡沫形成单元,该泡沫形成单元由所述处理液形成泡沫;和
容纳要被供应到所述泡沫形成单元的所述处理液的处理液容器,或者废液容器;
其中所述通道与所述泡沫形成单元和所述处理液容器或所述废液容器连通。
10.如权利要求7至9中任何一个所述的图像形成设备,其特征在于,
所述加热单元包含多个表面,所述表面中的每一个表面与所述多余泡沫接触。
11.如权利要求7至10中任何一个所述的图像形成设备,其特征在于,
所述多余泡沫指的是没有被供应到所述涂敷单元的泡沫。
12.一种泡沫涂敷装置,该泡沫涂敷装置将泡沫涂敷到目标涂敷构件,所述泡沫通过使流体和凝胶中的至少一种起泡沫来制备,所述泡沫涂敷装置包括:
泡沫形成单元,该泡沫形成单元形成泡沫;
涂敷单元,该涂敷单元将所述泡沫涂敷到所述目标涂敷构件;和
供应单元,该供应单元从所述泡沫形成单元引进泡沫并且通过供应口将所述泡沫供应到所述涂敷单元,其中
所述供应单元包含排出口,没有被供应到所述涂敷单元的泡沫通过所述排出口排出,以及
被引进到所述供应单元的泡沫的数量大于被供应到所述涂敷单元的泡沫的数量。
13.一种泡沫涂敷装置,该泡沫涂敷装置将泡沫涂敷到目标涂敷构件,所述泡沫通过使流体和凝胶中的至少一种起泡沫来制备,所述泡沫涂敷装置包括:
涂敷单元,该涂敷单元涂敷所述泡沫;
通道,该通道收集剩余而没有被涂敷的多余泡沫;和
加热单元,该加热单元加热所述通道上的多余泡沫以使所述多余泡沫恢复为液态。
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