[发明专利]基板传送装置、基板传送方法以及真空处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及基板传送装置、基板传送方法以及具备所述基板传送装置的真空处理装置。

背景技术

以往，存在一种真空处理装置，其对用于液晶显示器等平面显示器的大型玻璃基板实施例如通过阴极真空喷镀来形成薄膜等真空处理。近年来，作为这样的真空处理装置，为了提高生产效率多会采用将基板向多个真空处理室逐次传送并连续处理的、所谓流线式真空处理装置。另外，例如在专利文献1中公开了具备各个真空处理室和呈矩形框架状的托架，该托架将基板以垂直竖立的状态传送至各个真空处理室。这样，由于托架将基板以垂直竖立的状态传送到真空处理室，所以即使在基板被大型化的情况下也可以抑制真空处理装置的设置空间的增大，同时还能够配置多个托架，从而提高生产效率。

然而，在上述专利文献1中，在向托架交接基板的时候，自动传送机将储存在预定位置的处理前的基板取来，将基板放置在倒为水平的状态(水平状态)的托架上。然后，在将基板保持在托架上之后，通过转动机构使所述托架转动并直立，由此基板变为在垂直竖立的状态(垂直状态)下被保持在托架上的状态。也就是说，在上述以往的构成中，托架在水平状态和垂直状态之间转动。因此，为了降低托架在转动时的弯曲，须要将构成托架的部件加厚从而提高其刚性，这样就会出现托架的重量增大的问题。结果出现了以下问题：即各个托架的制造成本增大的同时，由于在转动托架时、或者向真空处理室传送基板时所需要的电力增大而导致基板的生产成本增大的问题。

专利文献1：日本特开2006-114675号公报

发明内容

本发明提供可以使将基板以垂直状态传送的托架轻量化的基板传送装置、基板传送方法及真空处理装置。

本发明的第1形态为基板传送装置。基板传送装置向以垂直状态传送平板状的基板的托架交接所述基板，该基板传送装置包括：框架，其具有矩形的框体，并能够以沿水平方向延伸的转动轴为中心转动；多个吸垫，其设置在所述框架上，吸附所述基板；和驱动部，其使所述框架在水平状态和垂直状态之间转动，所述转移机构在所述框架处于水平状态的情况下通过所述多个吸垫吸附处于水平状态的所述基板，在将所述基板保持在所述框架上的状态不变的情况下，使所述框架从水平状态向垂直状态转动，将处于垂直状态的所述基板交接至所述托架。

本发明的第2形态为基板传送方法。从基板传送装置向以垂直状态传送平板状的基板的托架交接所述基板的基板传送方法，包括以下步骤：在所述基板传送装置内将具有多个吸垫的框架维持在水平状态，在所述框架处于水平状态的情况下用所述多个吸垫吸附处于水平状态的所述基板；在将所述基板保持在所述框架上的状态不变的情况下，将所述框架从水平状态向垂直状态转动；将处于垂直状态的所述基板交接至所述托架。

本发明的第3形态为真空处理装置。真空处理装置包括：真空处理室，其对平板状的基板进行真空处理；托架，其将所述基板以垂直状态向所述真空处理室传送；和基板传送装置，其将所述基板向所述托架交接，所述基板传送装置包括：转移机构和控制装置，转移机构其包括：具有矩形的框体的、能以沿水平方向延伸的转动轴为中心转动的框架；设置在所述框架上，吸附所述基板的多个吸垫；和使所述框架在水平状态和垂直状态之间转动的驱动部，控制装置控制所述驱动部及所述多个吸垫，所述转移机构在所述框架处于水平状态的情况下通过所述多个吸垫将处于水平状态的所述基板吸附，在将所述基板保持在所述框架上的状态不变的情况下，使所述框架从水平状态向垂直状态转动，将处于垂直状态的所述基板交接至所述托架。

附图说明

图1是真空处理装置的概略构成图。

图2是基板传送装置的概略构成图。

图3是显示转移机构的概略构成的右侧面图。

图4是显示转移机构的概略构成的平面图。图5是显示转移机构的概略构成的正面图。

图6是显示托架的概略构成的正面图。

图7是显示形成在框架上的吸附区域的示意图。

图8是现实吸垫的概略构成的截面图。

图9(a)-(e)是显示向托架交接基板的动作的动作说明图。

图10(a)-(d)是显示从托架接受基板的动作的动作说明图。

具体实施方式

以下，参照附图对一个实施方式的真空处理装置1进行说明。作为例子，此真空处理装置1被具体化为将基板逐次传送至多个真空处理室并连续处理的、所谓流线式的真空处理装置。

如图1所示的真空处理装置1对用于液晶显示器等平面显示器的大型玻璃基板(例如一边在2m以上)，实施通过阴极真空喷镀形成薄膜等处理。