[发明专利]薄片粘贴装置及粘贴方法有效
申请号: | 200880123063.9 | 申请日: | 2008-11-28 |
公开(公告)号: | CN101903997A | 公开(公告)日: | 2010-12-01 |
发明(设计)人: | 中田斡;青木阳太 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人: | 段迎春 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 薄片 粘贴 装置 方法 | ||
1.一种薄片粘贴装置,它包括:
工作台,用于支撑被粘接体;
可开闭的机箱,用于容纳所述工作台的同时,在内部形成减压室;
供给机构,其将粘合片供给到面对所述被粘接体的位置;
所述薄片粘贴装置把所述机箱封闭,并在减压状态下将所述粘合片粘贴到所述被粘接体上,其特征在于,
在把所述机箱封闭并形成单一的减压室的状态下,在该减压室内可以形成将所述被粘接体和该所述被粘接体上的粘合片包围,并可独立于所述减压室控制压力的压力调节室。
2.一种薄片粘贴装置,它包括:
工作台,用于支撑半导体晶片;
第一机箱,用于容纳该工作台,并设有开口部;
第二机箱,其将所述开口部封闭,且与第一机箱一起形成减压室;
供给机构,其将粘合片供给到面对所述被粘接体的位置;
在减压状态下将所述粘合片粘贴到半导体晶片上,其特征在于,
在用第二机箱将所述第一机箱封闭而形成单一的减压室的状态下,在该减压室内设有隔板,该隔板将所述半导体晶片和该所述半导体晶片上的粘合片包围,并形成可独立于所述减压室控制压力的压力调节室。
3.根据权利要求2所述的薄片粘贴装置,其特征在于,所述工作台被设置成其上表面可以相对所述隔板进退。
4.一种薄片粘贴方法,其特征在于,它包括如下工序,
支撑被粘接体的工序;
将粘合片供给到面对所述被粘接体位置的工序;
将所述被粘接体和粘合片容纳并形成单一的减压室的工序;
对所述减压室内进行减压的工序;
在所述减压室内,形成将所述被粘接体和该被粘接体上的粘合片包围,并可独立于所述减压室控制压力的压力调节室的工序;
以及,通过使所述压力调节室的压力对于所述减压室相对地上升,将所述粘合片粘贴到被粘接体上的工序。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于琳得科株式会社,未经琳得科株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880123063.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造