[发明专利]处理装置

权利要求书

1.一种处理装置，其特征在于，包括：

设置在处理容器的内部，用于载置被处理体的载置台；

用于从该载置台的上方侧供给处理气体，对载置于该载置台上的 被处理体进行处理的处理气体供给单元；

用于从所述载置台的周围对处理容器内的气体进行排气的气体排 气部；和

沿着该载置台的周方向设置在所述载置台的周缘部的上方，在与 该周缘部之间向外侧引导气流的气流导向部件，

该处理装置还包括使所述气流导向部件升降的升降机构，

所述气流导向部件被控制为其高度在被处理体的处理时与搬送时 之间不同，

在气流导向部件上设置气流限制部，使得为了在被处理体的处理 时抑制上方侧的气体通过该气流导向部件与设置在处理容器的侧壁上 的搬入搬出口之间的间隙向下方侧经过而覆盖被处理体的搬入搬出 口，另一方面，该气流限制部在被处理体的搬送时从与该搬入搬出口 邻接的位置退避。

2.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于：

所述气流导向部件为板状的环状部件，具有与所述载置台上的被 处理体的外形形状相对应的开口部。

3.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于：

所述气流导向部件为埋入在所述载置台的周缘部的上方的空间内 的部件。

4.如权利要求1～3中任一项所述的处理装置，其特征在于：

所述气流导向部件的内端缘比所述被处理体的外端缘的上方位置 更靠外侧。

5.如权利要求1～3中任一项所述的处理装置，其特征在于：

所述气流导向部件的内端缘位于从所述被处理体的外端缘的上方 位置沿着水平方向偏离±10mm的位置的范围内。

6.如权利要求1～3中任一项所述的处理装置，其特征在于：

对应所述载置台的周方向的位置使所述气流导向部件的高度不 同，以使利用所述处理气体处理被处理体的处理速度相对于沿着该被 处理体的外周的方向均匀化。

7.如权利要求1～3中任一项所述的处理装置，其特征在于：

使所述气流导向部件局部向内侧突出或者使该气流导向部件局部 向外侧凹陷，以使利用所述处理气体处理被处理体的处理速度相对于 沿着该被处理体的外周的方向均匀化。

8.如权利要求1～3中任一项所述的处理装置，其特征在于，包括：

以包围所述载置台上的被处理体的方式设置的整流部件，该整流 部件的上表面比该被处理体的表面高。

9.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于：

所述气流导向部件为伸出至所述载置台的周缘部的上方的所述处 理容器的内壁面。

10.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于：

进行控制，使得在所述气流导向部件中，至少使邻接所述被处理 体的搬入搬出口的部位在被处理体的搬送时下降至比该搬入搬出口低 的位置。

11.如权利要求10所述的处理装置，其特征在于：

所述气流导向部件由设置在所述处理容器的侧壁部的、与被处理 体的搬入搬出口邻接的一个部件以及与该一个部件相分离而形成的另 一个部件构成，所述升降机构能够使该一个部件和另一个部件独立进 行升降。

12.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，包括：

用于存储与被处理体的处理条件和所述气流导向部件的高度位置 有关的数据的存储部；和控制所述升降机构的控制部，使得能够根据 所选择的处理条件读出存储在所述存储部中的数据，根据读出的数据 来调节气流导向部件的高度位置。

13.如权利要求1～3中任一项所述的处理装置，其特征在于：

对所述被处理体进行的处理为形成于被处理体表面上的含有选自 铝膜、铝合金膜、钛膜和钛合金膜中的至少一种膜的蚀刻处理。