[发明专利]曝光中使用的光掩膜

权利要求书

1.一种光掩膜，其在曝光中使用，在所述曝光中，通过将力施加在 薄膜状光掩膜的周缘使该光掩膜弹性变形，从而改变在该光掩膜上描绘出 的、包括多个对位标记的图案的尺寸及/或形状，由此使所述光掩膜和基板 对位之后，将所述图案转印在所述基板上，

所述光掩膜的特征在于，具备：

中央部分，其描绘有所述图案；

力传递部分，其与该中央部分独立制成，以作为整体包围所述中央部 分的外周缘部的方式配置，且与该中央部分的外周缘部接合，该力传递部 分具有用于与力赋予机构连结的连结部，该力赋予机构用于使所述中央部 分弹性变形。

2.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，

所述力传递部分由在所述中央部分的每个边独立制成的多个带状构 件构成，所述带状构件与所述中央部分的每个边接合。

3.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，

所述力传递部分作为单一框状构件制成，该框状构件与所述中央部分 接合。

4.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，

所述力传递部分由在所述中央部分的相互邻接的每两个边制成的一 对L字状构件构成，该一对L字状构件与所述中央部分接合。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光掩膜，其特征在于，

所述中央部分及所述力传递部分在使相互的缘端面面对面的状态下， 通过在该面对面部的至少单面侧粘贴粘附胶带而相互接合。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的光掩膜，其特征在于，

所述连结部由多个孔构成，该孔用于钩挂形成在作为力赋予机构的致 动器的可动端部上的钩部。

7.一种光掩膜，其在曝光中使用，在所述曝光中，通过将力施加在 薄膜状光掩膜的周缘使该光掩膜弹性变形，从而改变在该光掩膜上描绘出 的、包括多个对位标记的图案的尺寸及/或形状，由此使所述光掩膜和基板 对位之后，将所述图案转印在所述基板上，

所述光掩膜的特征在于，具备：

中央部分，其描绘有所述图案；

力传递部分，其与该中央部分独立制成，以作为整体包围所述中央部 分的外周缘部的方式配置，且与该中央部分的外周缘部接合，该力传递部 分具有用于与力赋予机构连结的连结部，该力赋予机构用于使所述中央部 分弹性变形，

其中，所述中央部分及所述力传递部分在使相互的缘端面面对面的状 态下，通过在该面对面部的至少单面侧粘贴粘附胶带而相互接合，

所述连结部由多个孔构成，该孔用于钩挂形成在作为力赋予机构的致 动器的可动端部上的钩部。