[发明专利]感光性组合物、感光性薄膜、感光性层叠体、永久图案形成方法及印刷电路板无效
申请号: | 200910003718.5 | 申请日: | 2009-02-01 |
公开(公告)号: | CN101644893A | 公开(公告)日: | 2010-02-10 |
发明(设计)人: | 池田贵美 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/031 | 分类号: | G03F7/031;G03F7/00;H05K3/28 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱 丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 组合 薄膜 层叠 永久 图案 形成 方法 印刷 电路板 | ||
1.一种感光性组合物,其特征在于,含有粘合剂、聚合性化合物、肟衍生物和离子吸附剂。
2.根据权利要求1所述的感光性组合物,其中,离子吸附剂含有磷酸锆。
3.根据权利要求1所述的感光性组合物,进一步含有填料。
4.根据权利要求1所述的感光性组合物,进一步含有热交联剂。
5.根据权利要求1所述的感光性组合物,其中,肟衍生物为如下通式(1)所示,
通式(1)
通式(1)中,R1表示氢原子、可具有取代基的酰基、烷氧羰基和芳氧基羰基中的任一个,R2分别独立地表示卤原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基和氨基中的任一个,m表示0~4的整数,m为2以上时可彼此连接形成环,A表示4、5、6和7员环中的任一个。
6.根据权利要求5所述的感光性组合物,其中,肟衍生物为如下通式(2)所示,
通式(2)
通式(2)中,R1表示氢原子、可具有取代基的酰基、烷氧羰基和芳氧基羰基中的任一个,R2分别独立地表示卤原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基和氨基中的任一个,m表示0~4的整数,X表示CH2、O和S中的任一个,l表示1~3的整数。
7.根据权利要求5所述的感光性组合物,其中,肟衍生物为如下通式(3)和(4)中的任一个所示,
通式(3)
通式(4)
所述通式(3)和(4)中,R1表示氢原子、可具有取代基的酰基、烷氧羰基和芳氧基羰基中的任一个,R2分别独立地表示卤原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基和氨基中的任一个,m表示0~4的整数,X表示CH2、O和S中的任一个,l表示1~3的整数。
8.根据权利要求6所述的感光性组合物,其中,通式(2)中的X为O和S中的任一个,l为1和2中的任一个,R1为可具有取代基的酰基和烷氧羰基中的任一个。
9.根据权利要求7所述的感光性组合物,其中,通式(3)和(4)中的X为O和S中的任一个,1为1和2中的任一个,R1为可具有取代基的酰基和烷氧羰基中的任一个。
10.根据权利要求1所述的感光性组合物,其中,聚合性化合物的I/O值的重量平均为0.5以下。
11.一种感光性薄膜,其特征在于,在支撑体上具有由权利要求1所述的感光性组合物组成的感光层。
12.一种感光性层叠体,其特征在于,其在基体上具有由权利要求1所述的感光性组合物组成的感光层。
13.一种永久图案形成方法,其特征在于,至少包括对由权利要求1所述的感光性组合物形成的感光层进行曝光的步骤。
14.根据权利要求13所述的永久图案形成方法,其中,曝光是在用光调制机构调整光后,通过配置了微透镜的微透镜阵列来进行的,其中所述微透镜具有可以校正因该光调制机构中描绘部的射出面变形而产生的像差的非球面。
15.根据权利要求13所述的永久图案形成方法,其中,进行曝光后,对感光层进行显影。
16.根据权利要求13所述的永久图案形成方法,其中,进行显影后,对感光层进行固化处理。
17.一种印刷电路板,其特征在于,由权利要求13中所述的永久图案形成方法形成永久图案。
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