[发明专利]曝光头、图像形成组件、以及图像形成装置无效

专利信息
申请号: 200910005321.X 申请日: 2009-02-05
公开(公告)号: CN101503030A 公开(公告)日: 2009-08-12
发明(设计)人: 樱井和德 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B41J2/447 分类号: B41J2/447
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 雒运朴;李 伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 曝光 图像 形成 组件 以及 装置
【权利要求书】:

1.一种曝光头,具有:

透光性基板;

配置在所述透光性基板的一个面上的多个发光元件;和

被配置在所述透光性基板的1个或多个光检测部件,其可检测出从所述发光元件射出并在所述透光性基板内传播的光;

该曝光头将从所述发光元件射出并透过了所述透光性基板的光,照射到隔着所述透光性基板与所述发光元件对置的像担承体上,在所述像担承体上形成规定的图形,其特征在于,

所述透光性基板内形成有使在该透光性基板内传播的光漫反射的多个改质点。

2.根据权利要求1所述的曝光头,其特征在于,

在所述透光性基板表面的除了配置有所述发光元件的区域、与该发光元件对置的区域、和配置有所述光检测部件的区域以外的区域的至少一部分上,配置有反射由所述发光元件射出的光的反光层。

3.根据权利要求1或2所述的曝光头,其特征在于,

所述发光元件是有机EL元件。

4.根据权利要求1或2所述的曝光头,其特征在于,

所述改质点是利用激光形成的点。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的曝光头,其特征在于,

所述改质点的形成密度根据所述透光性基板内的位置而不同。

6.一种图像形成组件,其特征在于,具有权利要求1至5中任意一项所述的曝光头。

7.一种图像形成装置,其特征在于,具有权利要求1至5中任意一项所述的曝光头。

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