[发明专利]曝光头、图像形成组件、以及图像形成装置

说明书

技术领域

本发明涉及具有多个发光元件的曝光头、具备该曝光头的图像形成组件(unit)、以及具备该曝光头的图像形成装置。

背景技术

有一种将通过对感光体鼓进行曝光而形成在该感光体鼓表面上的潜像，利用1次转印辊等转印到纸等介质上，来形成图像的方式的图像形成装置。作为在这种图像形成装置中使用的曝光头之一，有使用在基板上规则配置的发光元件和折射率分布型透镜的类型的曝光头。通过由多个折射率分布型透镜分别将从1个发光元件射出的光重叠成像在感光体鼓表面的同一位置，在该表面上形成1个光点(spot)。通过将这样的光点集合，形成图像(潜像)。

该方式的曝光头中可能产生的问题是，多个发光元件之间的光量差异。由于发光频度的差异等，在施加了同一电流或电压的情况下，从各个发光元件射出的光的强度随着时间变化而产生差异，因而成为形成良好图像(潜像)时的障碍。为了抑制这种现象，例如在专利文献1所记载的曝光头中，通过在发光基板上与发光元件一同配置光检测部件，可测定每个发光元件的光量。

图16中作为上述方式，即具有以往的曝光头的发光基板，示意地表示了使用底发光型有机EL元件310的发光基板300。(a)是俯视图，(b)是侧视图，(c)是B-B’线的剖面图。如图所示，在锯齿状配置于透光性基板301上的有机EL元件310的周边，配置有由光电二极管等受光元件构成的光检测部件320作为光检测部件。

从有机EL元件310射出的光的一部分一边在透光性基板301的表面和背面反复反射，一边到达光检测部件320，通过使各个有机EL元件310顺序发光，可测定光量。然后，通过根据上述测定结果修正向各个有机EL元件310施加的电流(或电压)值，可形成高精度的图像(潜像)。

[专利文献1]特开2004-66758号公报

但是，在上述结构的发光基板中，存在着有机EL元件310射出的光中可被光检测部件320测定的光的比例少的问题。即，如图16(b)所示，到达光检测部件320的光只限于角度范围θa范围内的光L1，该角度范围以外的光不到达光检测部件320而直接射出到发光基板300的外部。因此，存在下述问题：难以正确把握有机EL元件310的发光强度的经时变化，在未使用复杂的放大电路或降噪电路等的情况下，上述的修正精度会下降。

发明内容

本发明是为了解决上述问题的至少一部分而提出的，其能够以如下的形态或应用例来实现。

[应用例1]

一种曝光头，具有：透光性基板；被配置在上述透光性基板的一个面上的多个发光元件；和被配置在上述透光性基板上的1个或多个光检测部件，其可检测出从上述发光元件射出并在上述透光性基板内传播的光；该曝光头将从上述发光元件射出并透过了上述透光性基板的光，照射到隔着上述透光性基板与上述发光元件对置的像担承体上，在上述像担承体上形成规定的图形，其特征在于，上述透光性基板内形成有使在该透光性基板内传播的光漫反射的多个改质点。

根据这样的结构，可增加入射到上述光检测部件中的光的量。因此，可高精度进行上述的修正，形成高精度的图像(潜像)。

[应用例2]

上述的曝光头中，在上述透光性基板的表面的除了配置有上述发光元件的区域、与该发光元件对置的区域、和配置有上述光检测部件的区域以外的区域的至少一部分上，配置有反射由上述发光元件射出的光的反光层。

根据这样的结构，可高效率地增加入射到上述光检测部件中的光的量。因此，可更高精度进行上述的修正，形成更高精度的图像(潜像)。

[应用例3]

在上述的曝光头中，上述发光元件是有机EL元件。

根据这样的结构，在上述透光性基板上能够将由TFT工序形成的驱动用晶体管与有机EL元件组合，从而可降低上述曝光头的制造成本。

[应用例4]

在上述的曝光头中，上述改质点是由激光形成的点。

使用激光能够在上述透光性基板内的任意位置形成上述改质点。因此，根据这样的结构，可有效增加入射到上述光检测部件中的光的量，从而有效地进行上述的修正，

[应用例5]

在上述的曝光头中，上述改质点的形成密度根据上述透光性基板内的位置而不同。

根据这样的结构，例如通过在上述光检测部件附近以高密度形成上述改质点，可高效率地增加入射到上述光检测部件中的光的量。因此，能够在降低上述曝光头的制造成本的同时，有效地进行上述的修正。

[应用例6]

一种图像形成组件，其特征在于，具有上述的曝光头。