[发明专利]无掩模曝光装置

权利要求书

1.一种无掩模曝光装置，具有：以预定的间隔排列的多个激光光源、使从上述激光光源出射的激光光束排列成一定的位置关系的轴间距变换装置、使上述激光光束在y方向扫描的多角镜、定位成出射侧的焦点位置在上述多角镜的反射面上的长焦透镜、使扫描的上述激光光束会聚到基板上的fθ透镜、搭载上述基板并在与上述扫描方向正交的x方向自由移动的载物台、根据曝光图形信息控制上述多角镜的旋转角和上述载物台的位置及上述激光光源的控制电路，其特征在于，

上述多个激光光源的每一个具备光束角度调整机构，该光束角度调整机构包含将上述激光光束的出射角度调整到所希望的角度的整形透镜、用于将出射光调整成平行光的至少一个调整透镜、保持上述至少一个调整透镜使其在相对于该调整透镜的光轴成直角的方向上自由移动的保持机构，

上述光束角度调整机构配置在上述光源和上述轴间距变换装置之间使得上述调整透镜的光轴与上述激光光源的设计上的光轴同轴，通过使上述调整透镜在相对于该光轴成直角的方向上移动，使上述激光光束的光轴与设计上的光轴平行。

2.根据权利要求1所述的无掩模曝光装置，其特征在于，

上述多个激光光源是半导体激光器，通过配置在上述半导体激光器的出射侧的为非球面透镜的整形透镜，将从上述半导体激光器出射的激光光束整形成平行光束而入射到上述调整透镜。

3.根据权利要求1所述的无掩模曝光装置，其特征在于，

上述光束角度调整机构由使一个焦点位置相同的具有正负焦度的两个调整透镜构成。

4.根据权利要求3所述的无掩模曝光装置，其特征在于，

上述调整透镜的至少一个可在光轴方向微调。

5.根据权利要求2所述的无掩模曝光装置，其特征在于，

上述整形透镜是使从上述半导体激光器出射的激光光束成为发散光束出射的非球面透镜，

上述光束角度调整机构由具有正焦度的一个调整透镜构成。

6.根据权利要求2所述的无掩模曝光装置，其特征在于，

上述整形透镜是使从上述半导体激光器出射的激光光束成为会聚光束出射的非球面透镜，上述光束角度调整机构由具有负焦度的一个调整透镜构成。