[发明专利]无掩模曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及使激光在被曝光物上会聚扫描，在被曝光物上描画图形的无掩模曝光装置。

背景技术

以前，在印刷基板、液晶显示器的TET基板及彩色滤波片基板或等离子体显示器的基板等被曝光物(以下称为“基板”)的表面曝光(描画)图形的场合是制作作为图形的原版的掩模，通过用掩模曝光装置把在掩模上形成的图形复制到基板上来曝光(描画)。

基板的尺寸近年来逐渐变大，相对于此，对基板的设计和制作所要求的时间逐渐变短。此外，在设计基板时很难使设计错误为零，大部分场合需要修改设计并再次制作掩模。此外，根据基板的种类，多数场合是品种多，少量生产，对每个基板制作掩模在成本方面和工期方面等上是难以避免的状况。

鉴于上述状况，近年来对不使用掩模的无掩模曝光的要求变强。作为进行无掩模曝光的方法，有使用液晶或DMD(Digital Mirror Device)等二维空间调制器来产生二维图形，用投影透镜把它描画到基板上的方法(专利文献1)。

此外，有用多角镜使被EO调制器或AO调制器调制过的激光扫描来描画到基板上的方法。

前者的方法可描画比较细微的图形，但装置价格高昂。另一方面，后者的方法难以高精细地描画大面积图形，但可以在大区域描画粗略的图形。此外，后者的方法因结构简单而可以比较廉价地生产，但为了缩短生产周期而需要大输出功率的激光器，初始成本以及运行成本较高。对此，为了降低光源的成本，有将多个半导体激光器作为光源的技术(专利文献2)。

专利文献1：特开2004-39871号公报

专利文献2：特开2006-267719号公报

发明内容

在以多个半导体激光器为光源的场合，为了提高描画品质，必须使从各半导体激光器出射的光束的光轴相互平行，必须有效地进行光束的定位作业。

本发明的目的是提供一种无掩模曝光装置，它在以多个半导体激光器为光源的场合也能够有效地使从各半导体激光器出射的光束的光轴平行。

为了解决上述问题，本发明提供一种无掩模曝光装置，具有：以预定的间隔排列的多个激光光源、使从上述激光光源出射的激光光束排列成一定的位置关系的轴间距变换装置、长焦透镜、使上述激光光束在y方向扫描的多角镜、使扫描的上述激光光束会聚到基板上的fθ透镜、搭载上述基板并在与上述扫描方向正交的x方向自由移动的载物台、根据曝光图形信息控制上述多角镜的旋转角和上述载物台的位置及上述激光光源的控制电路，其特征在于，对上述多个激光光源的每一个设置由将上述激光光束的出射角度调整到所希望的角度的整形透镜和保持上述至少一个调整透镜使其在相对于该调整透镜的光轴成直角的方向上自由移动的保持机构所组成的光束角度调整机构，上述光束角度调整机构配置在上述光源和上述轴间距变换装置之间使得上述调整透镜的光轴与上述激光光源的设计上的光轴同轴，通过使上述调整透镜相对于该光轴在直角方向移动来使上述激光光束的光轴与设计上的光轴平行。

本发明的效果如下。

能够有效地使多个光束的光轴平行。

附图说明

图1是本发明的无掩模曝光装置的整体构成图。

图2是图1中的光源部1的说明图。

图3是照射到曝光基板上的多个光斑的排列图。

图4是表示从LD出射的激光光束的光路的图。

图5是本发明的光束角度调整机构的说明图(第1实施方式)。

图6是本发明的光束角度调整机构的说明图(第2实施方式)。

图7是本发明的光束角度调整机构的说明图(第3实施方式)。

图8是本发明的光束角度调整机构的说明图(第4实施方式)。

图9是本发明的光束位置调整机构的说明图。

图10是本发明的其它无掩模曝光装置的整体构成图。

图中：

2-光束角度调整机构，12-激光光源(LD)，13-整形透镜，14-轴间距变换装置，2011-调整透镜，2012-调整透镜。

具体实施方式

图1是本发明的无掩模曝光装置的整体构成图。此外，图2是图1中的光源部1的说明图，(a)是光源部1的正视图(在图1中从镜100侧所见的图，该图的左侧为上侧)，(b)是代表性的平面剖面图。此外，图3是照射到曝光基板上的多个光斑的排列图。