[发明专利]加热装置、定影装置和成像装置

权利要求书

1.一种加热装置，该加热装置用于成像装置的定影装置，该加热装置包括：

产生磁场的磁场发生单元；

发热构件，该发热构件布置成面对所述磁场发生单元，并通过所述磁场的电磁感应而发热，且具有厚度比趋肤深度薄的发热层，该发热构件是两端部被可旋转支撑的定影旋转体；

温敏构件，该温敏构件布置成面对所述发热构件的与所述磁场发生单元所处一侧相反的一侧，并通过所述磁场的电磁感应而发热，且包括温敏磁性构件，该温敏磁性构件的导磁率从导磁率变化开始温度开始连续减小，该导磁率变化开始温度位于大于等于所述定影旋转体的设定定影温度并小于等于所述定影旋转体的耐热温度的温度区域内；以及

接近/分离机构，该接近/分离机构在所述温敏构件的温度达到所述设定定影温度之前将所述温敏构件保持在与所述发热构件分离的状态下，并在所述温敏构件达到所述设定定影温度时和之后使所述温敏构件接触所述发热构件。

2.根据权利要求1所述的加热装置，该加热装置还包括感测所述温敏构件的温度的温度传感器，其中，在由该温度传感器感测的所述温敏构件的温度未达到预定设定温度时，所述接近/分离机构不使所述温敏构件接触所述发热构件。

3.根据权利要求1所述的加热装置，该加热装置还具有包括所述磁场发生单元的第一加热源、加热所述温敏构件并且不同于所述磁场发生单元的第二加热源，其中所述第二加热源在所述温敏构件的温度达到大于等于所述设定定影温度之前的时间段内加热所述温敏构件。

4.根据权利要求3所述的加热装置，其中，所述第二加热源是布置在所述温敏构件的与所述磁场发生单元所处一侧相反的一侧的平面发热体。

5.根据权利要求3所述的加热装置，该加热装置还包括向所述第二 加热源供应电力的电力存储单元。

6.根据权利要求1所述的加热装置，其中，在所述温敏磁性构件的与所述磁场发生单元所处一侧相反的一侧的表面处布置非磁性金属层。

7.根据权利要求1所述的加热装置，该加热装置还包括感应体，该感应体包括非磁性金属，并以在所述温敏磁性构件的与所述磁场发生单元所处一侧相反的一侧处形成闭合磁路的方式感应磁通。

8.一种定影装置，该定影装置包括：

权利要求1至7中任一项所述的加热装置，

所述定影装置还包括与所述定影旋转体的外周面进行接触的施压旋转体，该施压旋转体将位于经过所述施压旋转体与所述定影旋转体之间的记录介质上的显影剂图像定影至该记录介质。

9.一种成像装置，该成像装置包括：

权利要求8所述的定影装置，

发射曝光光的曝光部；

显影部，该显影部通过显影剂使通过所述曝光光形成的潜像显影而形成显影剂图像；

转印部，该转印部将在所述显影部显影的所述显影剂图像转印到记录介质上；以及

输送部，该输送部将在所述转印部处转印有所述显影剂图像的记录介质输送至所述定影装置。