[发明专利]曝光方法及曝光装置、载置台装置、及设备制造方法

权利要求书

1.一种曝光方法，交互地对分别保持在两个基板载置台上的基板 进行曝光处理，其特征在于，包括以下步骤：

在对一个基板载置台上的基板进行曝光动作之后对另一个基板载 置台上的基板进行曝光动作时，使保持结束了上述曝光动作的基板的 上述一个基板载置台暂时位于保持接下来进行曝光动作的基板的上述 另一个基板载置台的下方；

在对保持在上述一个基板载置台上的基板进行了曝光动作之后对 保持在上述另一个基板载置台上的基板进行曝光动作时，检测出固定 在上述另一个基板载置台上的基板上形成的标记后将上述另一个基板 载置台配置于进行上述曝光处理的位置；

使在进行上述曝光动作时上述两个基板载置台在其上部移动的移 动面和检测上述标记时上述两个基板载置台在其上部移动的移动面为 同一高度；

利用第1线性电机使上述一个基板载置台沿着上述移动面移动， 该第1线性电机包括固定件以及设于上述一个基板载置台上且能够相 对于上述固定件移动的第1可动件；以及

利用第2线性电机使上述另一个基板载置台沿着上述移动面移 动，该第2线性电机包括上述固定件和设于上述另一个基板载置台上 且能够相对于上述固定件移动的第2可动件，

其中，上述一个基板载置台与上述第1可动件一起暂时位于上述 另一个基板载置台的下方。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

通过与上述线性电机独立设置的第一驱动装置使上述基板载置台 在与上述移动面垂直的方向上移动，

通过与上述第一驱动装置独立设置的第二驱动装置使上述一个基 板载置台和上述第一驱动装置的一部分一起相对于上述另一个基板载 置台在与上述移动面垂直的方向上移动。

3.一种曝光方法，交互地对分别保持在两个基板载置台上的基板 进行曝光处理，其特征在于，包括以下步骤：

由标记检测系统检测出各上述基板载置台上的基板上形成的标 记；

在对一个基板载置台上的基板进行曝光动作之后对另一个基板载 置台上的基板进行曝光动作时，使保持结束了上述曝光动作的基板的 上述一个基板载置台暂时位于保持结束了由上述标记检测系统进行的 检测动作的基板的上述另一个基板载置台的下方；

利用第1线性电机使上述一个基板载置台沿着预定的面移动，该 第1线性电机包括固定件以及设于上述一个基板载置台上且能够相对 于上述固定件移动的第1可动件；以及

利用第2线性电机使上述另一个基板载置台沿着预定的面移动， 该第2线性电机包括上述固定件和设于上述另一个基板载置台上且能 够相对于上述固定件移动的第2可动件，

其中，上述一个基板载置台与上述第1可动件一起暂时位于上述 另一个基板载置台的下方。

4.一种设备制造方法，包括平版印刷步骤，其特征在于，

在上述平版印刷步骤中，使用权利要求1～3中任一项所述的曝光 方法进行曝光。