[发明专利]一种用废塑料低温制备立方碳化硅超细粉的方法无效

专利信息
申请号: 200910020098.6 申请日: 2009-04-02
公开(公告)号: CN101525134A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 钱逸泰;鞠治成;马小健;庞巧莲;邢政;徐立强 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C01B31/36 分类号: C01B31/36;C30B29/36;C04B35/565
代理公司: 济南金迪知识产权代理有限公司 代理人: 许德山
地址: 250100山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 塑料 低温 制备 立方 碳化硅 超细粉 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及废塑料的再利用及立方碳化硅制备,尤其涉及用废塑料低温制备立方碳化硅超细粉的方法。

背景技术

碳化硅(SiC)具有高的热传导性、抗氧化性以及耐化学腐蚀性,同时它又属于硬质材料,可广泛用于陶瓷、金属及聚合物基体复合材料的增强剂,参见Adv.Mater.,2000,12,1186。3C-SiC材料由于具有宽带隙(2.3eV)、高临界击穿电场、高热导率、高稳定性等特点,在微电子半导体器件方面具有巨大的应用潜力,是21世纪重要的新型功能半导体器件材料之一,许多国家相继投入了大量的资金对SiC进行了广泛深入的研究。

传统制备碳化硅方法的为碳热还原法,即Acheson法(US Patent,492767.1892),其制备温度通常要高于1800℃,制备过程可由下面的反应式表示:

SiO2(s)+3C(s)=SiC(s)+2CO(g)

Cutler等人用特殊处理的稻壳加热至2000℃生长出SiC晶须,参见J.Am.Ceram.Soc.Bull.,1975,54,195;US patent,3754076.1973。Dai H.J.等人在1200℃下将碳纳米管与具有高蒸气压的SiO或SiI2反应合成直径为2~30nm,长度达20μm的SiC纳米线,参见Nature,1995,375,769。上述制备过程往往都需要在1200℃以上高温或在气流中进行,所制备的产品有可能被应用到高科技领域,但其大规模生产将很难实现。Liu G.H.等人用炭黑和硅粉为原料,利用燃烧法于1600℃以上条件下大规模合成了碳化硅超细粉,参见J.Phys.Chem.C,2008,112,6285,但该方法产物中混有Si3N4和Si2N2O。

废塑料污染环境已经成为一个不可忽视的问题。废塑料中主要成分为低密度聚乙烯(LDPE)、高密度聚乙烯(HDPE)和聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)的塑料产品占大部分,且废塑料在立方碳化硅制备中被利用尚未见报道。

发明内容

本发明利用废塑料作为碳源,是提供一种经济、环保且易于工业化生产的低温制备结晶性良好的立方碳化硅(3C-SiC)微粉方法。

术语说明:

立方碳化硅(3C-SiC)超细粉,是指具有立方晶系晶体结构的碳化硅,且粒度为微米或纳米级。

废塑料:主要成分为低密度聚乙烯(LDPE)、高密度聚乙烯(HDPE)或聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)的塑料品废弃物,本说明书中分别简称为LDPE、HDPE或PET。

TEM照片:透射电子显微镜照片。

SEM照片:扫描电子显微镜照片。

HRTEM图片:高分辨透射电子显微镜照片。

发明概述

本发明旨在利用废塑料作为碳源与硅粉来合成碳化硅,金属钠、金属镁粉为还原剂,硫粉为辅助剂,在相对较低温度下廉价和大规模制备结晶程度良好的3C-SiC超细粉,及扩大碳化硅陶瓷及其相关复合材料的应用都具有重要意义,特别是以废塑料作为碳源,有利于节能降耗和降低原料成本,并且可实现废弃物资源化和环境污染控制。

发明详述

将使用过的主要成分为高密度聚乙烯(HDPE)、低密度聚乙烯(LDPE)或聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)的塑料品废弃物收集起来,用清水洗净自然干燥,或于60℃条件下干燥3小时,最后经过剪碎或机械粉碎后待用。

一种低温制备立方碳化硅超细粉的方法,步骤如下:

(1)将原料硅粉、废塑料(按单质碳计)与金属钠、金属镁粉和升华硫按摩尔比(0.1-3)∶1∶(0.5-8)∶(0.2-3.2)∶(0.1-3)混合,密封在不锈钢高压釜中,将该高压釜放置在电阻炉中,于350~500℃、0.5~10MPa条件下反应10~30小时;

(2)步骤(1)所得产物经醇洗、水洗和常规离心分离、干燥,即获得含有微量硅粉和无定形碳的立方碳化硅粗品,参见图1的X光衍射谱。

(3)步骤(2)所得产品经70%wt高氯酸回流或在空气中于600℃下灼烧3小时,除去无定形碳,然后经酸洗除去单质硅,即得立方碳化硅(3C-SiC)超细粉,参见图2的X光衍射谱。

优选的,上述步骤(1)所述金属镁粉为200目的金属镁粉。

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