[发明专利]一种场致发射显示器三重介质层下基板的制作方法

权利要求书

1.一种场致发射显示器三重介质层下基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)在玻璃基板上依次印刷栅极电极层和第一感光介质层，在100～130℃条件下干燥10～30分钟，得到栅极电极层厚度为10～30微米，第一感光介质层厚度10～30微米；

2)利用栅极掩膜板覆盖第一感光介质层和栅极电极层，对第一感光介质层和栅极电极层进行一次性曝光显影，得到栅极线条图案；

3)使用刻蚀介质浆料在第一感光介质层上面印刷刻蚀型介质层，在100～130℃条件下干燥10～30分钟，刻蚀型介质层厚度10～15微米；

4)对上述步骤得到的电极介质共烧，在马弗炉中升温速率为4～6℃/分钟，烧结曲线为从室温升到370～380℃恒温20分钟，再升到570～580℃恒温20分钟，后自然冷却至室温后取出；

5)在步骤4)电极介质共烧冷却后，使用感光介质浆料在刻蚀介质层上面印刷第二感光介质层，厚度为10～15微米，在100～130℃条件下干燥10～30分钟，再在第二感光介质层上面印刷阴极电极层，阴极电极层厚度10～20微米；

6)利用阴极掩膜板覆盖第二感光介质层和阴极电极层，对第二感光介质层和阴极电极层进行一次性曝光显影，得到阴极线条图案；

7)对上述步骤得到的各介质层进行第二次电极介质共烧，升温速率为4～6℃/分钟，烧结曲线同样为从室温升到370～380℃恒温20分钟，再升到570～580℃恒温20分钟，后自然冷却至室温后取出；

8)利用阴极电极层和第二感光介质层作为掩膜，用湿法刻蚀法对刻蚀型介质层进行刻蚀，得到相互垂直的阴极图案线条与栅极图案线条，完成下基板电极的制作。

2.根据权利要求1所述的场致发射显示器三重介质层下基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)在玻璃基板上依次印刷栅极电极层和第一感光介质层，在100℃条件下干燥30分钟，得到栅极电极层厚度为10微米，第一感光介质层厚度30微米；

2)利用栅极掩膜板覆盖第一感光介质层和栅极电极层，对第一感光介质层和栅极电极层进行一次性曝光显影，得到栅极结构线条；

3)使用刻蚀介质浆料在第一感光介质层上面印刷刻蚀型介质层，在100℃条件下干燥10分钟，刻蚀型介质层厚度15微米；

4)对上述步骤得到的电极介质共烧，在马弗炉中升温速率为6℃/分钟，烧结曲线为从室温升到370℃恒温20分钟，再升到580℃恒温20分，后自然冷却至室温后取出；

5)在步骤4)电极介质共烧冷却后，使用感光介质浆料在刻蚀介质层上面印刷第二感光介质层，厚度为15微米，在100℃条件下干燥10分钟，使第二感光介质层干燥，再在第二感光介质层上面印刷阴极电极层，阴极电极层厚度10微米；

6)利用阴极掩膜板覆盖第二感光介质层和阴极电极层，对第二感光介质层和阴极电极层进行一次曝光显影，得到阴极结构线条；

7)对上述步骤得到的各介质层进行第二次电极介质共烧，升温速率为4℃/分钟，烧结曲线同样从室温升到370℃恒温20分钟，再升到580℃恒温20分钟，后自然冷却至室温后取出；

8)利用阴极电极层与第二感光介质层作为掩膜，用湿法刻蚀法对刻蚀型介质层进行刻蚀，得到相互垂直的阴极图案线条与栅极图案线条，完成下基板电极的制作。