[发明专利]一种酚类纳米硅胶表面分子印迹材料的制备方法

权利要求书

1.一种酚纳米硅胶表面分子印迹材料的制备方法，其特征在于制备步骤为：

a.将纳米级SiO₂加入到致孔剂中，超声分散均匀；所述SiO₂的质量与致孔剂的体积比例g/mL为0.01～0.02∶1；

b.向上步所得含有SiO₂的致孔剂中加入模板分子、功能单体和交联剂正硅酸四乙酯，所述纳米级SiO₂的质量与模板分子的摩尔比例g/mmol为0.05～0.5∶1，交联剂与功能单体的体积比为2～4∶1，模板分子与功能单体的摩尔比例为0.1～0.33∶1；在温度10～40℃下搅拌反应液10～24h后离心，将离心后所得固体烘干；将烘干所得固体用有机溶剂和无机酸的混合溶液洗涤，去除未反应的功能单体、模板分子和交联剂，再用稀碱液和超纯水洗涤固体至洗脱液为中性，离心后所得固体在80～100℃烘干，得到酚纳米硅胶表面分子印迹材料；所述模板分子为：双酚A、联苯二酚、四溴双酚A、叔丁基苯酚、己烯雌酚、壬基酚或己烷雌酚；所述功能单体为：氨丙基三乙氧基硅烷、氨丙基三甲氧基硅烷或N-(2-氨乙基)-氨丙基三甲氧基硅烷。

2.根据权利要求1所述一种酚纳米硅胶表面分子印迹材料的制备方法，其特征在于所述纳米级SiO₂粒径范围为100～400nm。

3.根据权利要求1所述一种酚纳米硅胶表面分子印迹材料的制备方法，其特征在于所述致孔剂为甲醇、乙醇或者两者任意比例混合。

4.根据权利要求1所述一种酚纳米硅胶表面分子印迹材料的制备方法，其特征在于所述有机溶剂和无机酸的混合溶液，有机溶剂为甲醇，无机酸为盐酸，所述盐酸浓度为1.0～6mol/L，二者混合体积比为1∶0.5～1∶3。

5.根据权利要求1所述一种酚纳米硅胶表面分子印迹材料的制备方法，其特征在于所述稀碱液为NaOH、KOH或者两者任意比例混合的水溶液，碱浓度为0.05～0.2mol/L。