[发明专利]多层线路板生产用镀铜液无效
申请号: | 200910030625.1 | 申请日: | 2009-04-17 |
公开(公告)号: | CN101864585A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 杨雪林 | 申请(专利权)人: | 江苏苏杭电子有限公司 |
主分类号: | C25D3/38 | 分类号: | C25D3/38;C25D7/00 |
代理公司: | 昆山四方专利事务所 32212 | 代理人: | 盛建德 |
地址: | 215341 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多层 线路板 生产 镀铜 | ||
技术领域
本发明涉及电镀领域,特别是一种镀铜液。
背景技术
高档多层板,指的是大板面,小孔经(孔径≤φ0.3mm),板厚和孔经比≥6∶1,高密度细导线的14-20层及以上的多层印制板。这类多层印制板,有的应用于航空航天领域,有的用在大型计算机上。这类板,对质量要求极其严格和苛刻,例如孔化失效率必须要<1×10-10,即成千上万个孔不允许有一个孔失效。孔壁镀铜厚度必须≥25um,镀层延展性必须≥15%,结合力要大,进行288℃10秒钟6循环的热冲击试验,镀层应不出现断裂或产生微裂纹的现象。这些苛刻要求,一般镀铜液配方很难满足上述要求。
发明内容
为了克服上述缺陷,本发明提供一种多层线路板生产用镀铜液,该镀铜液可有效降低镀层出现断裂或产生微裂纹的现象。
本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种多层线路板生产用镀铜液,按浓度计:微蚀液中包含有如下成份:
CuSO4·5H2O:39.27~51.05g/L;
CuSO4:10.00~13.00g/L;
H2SO4:190.00~220.00g/L;
HCl:0.040~0.060g/L;
电镀光亮剂:50.8g/L~60.0g/L;
所述镀铜液的溶剂为去离子水。
所述电镀光亮剂包括如下四种试剂,按浓度计为:
S-(3-丙酰胺)-硫化丙磺酸钠:0.1g/L;
PEG(6000):10.0g/L;
丙烯酸酰胺:34.0g/L;
丙三醇:6.7g/L。
所述镀铜液的工作温度为22~27℃。
所述镀铜液的工作温度为25℃。
本发明的镀铜液可用于高档多层板的镀铜工艺,所用的电镀光亮剂为shadd-Cu1(此为业内专用型号术语,本例不再详述)。
本发明的有益效果是:本发明的镀铜液的酸、铜比大,配制后的镀铜液中H2SO4∶Cu2+=(17~20)∶1,具有优良的交换能力和溶液分散能力,且深镀性能好。
具体实施方式
实施例:一种多层线路板生产用镀铜液,按浓度计:微蚀液中包含有如下成份:
CuSO4·5H2O:39.27~51.05g/L;
CuSO4:10.00~13.00g/L;
H2SO4:190.00~220.00g/L;
HCl:0.040~0.060g/L;
电镀光亮剂:50.8g/L~60.0g/L;
所述镀铜液的溶剂为去离子水。
所述电镀光亮剂包括如下四种试剂,按浓度计为:
S-(3-丙酰胺)-硫化丙磺酸钠:0.1g/L;
PEG(6000):10.0g/L;
丙烯酸酰胺:34.0g/L;
丙三醇:6.7g/L。
所述镀铜液的工作温度为22~27℃。
所述镀铜液的工作温度为25℃。
本发明的镀铜液可用于高档多层板的镀铜工艺,所用的电镀光亮剂为shadd-Cu1(此为业内专用型号术语,本例不再详述)。
本发明具体实施例的配方参见表1:
表1:(单位:浓度g/L)
应用本发明的镀铜液进行镀铜可具有优良的孔中交换能力,溶液分散能力和深镀性能好,加上使用小阴极电流密度、长电镀时间,配合阴极移动、振动及上下左右对称挂板等工艺措施,可使高档多层板的孔化电镀能够获得较均匀的电镀层,该电镀层的孔壁铜层最厚与最薄极差<15um,结合力强,延展性>15%,分布力(throwing power)达到80%。本发明使得高档多层板生产的批量生产成为可能,提升了印制板生产的技术水平,提高了市场的竞争能力。
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