[发明专利]等离子显示器介质层制作中荫罩引出预留窗口的制作方法无效

专利信息
申请号: 200910030813.4 申请日: 2009-04-16
公开(公告)号: CN101521131A 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 刘文;朱立锋;王保平;林青园 申请(专利权)人: 南京华显高科有限公司
主分类号: H01J9/14 分类号: H01J9/14
代理公司: 南京天华专利代理有限责任公司 代理人: 夏 平
地址: 210061江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 等离子 显示器 介质 制作 中荫罩 引出 预留 窗口 制作方法
【权利要求书】:

1.一种等离子显示器介质层制作中荫罩引出预留窗口的制作方法,其特征是它包括以下步骤:

(a).在带有电极的基板的电极引出区(10)上贴附隔离物(11),隔离物(11)的厚度小于100um;

(b).将电极引出区(10)带有隔离物(11)的基板放入预热炉进行预热,预热温度为80℃-170℃;

(c).在贴附有隔离物(11)的基板上制作介质层,贴附介质完毕后,基板表面与隔离物(11)临界的地方形成一道明显的印痕,然后用刀片沿着隔离物(11)的边缘划开,把隔离物(11)和基板电极引出区(10)上的介质层从基板上剥离,使得基板上的电极引出区(10)完全暴露;

(d).用温度为80℃-130℃的压辊热压电极引出区(10)完全暴露的基板,完成介质层的制作。

2.根据权利要求1所述的等离子显示器中介质层的制做方法,其特征是所述的隔离物(11)为耐100℃以上温度的高温胶带。

3.根据权利要求1所述的等离子显示器中介质层的制做方法,其特征是所述的介质层的制作方法为介质干膜压合方法。

4.根据权利要求1所述的等离子显示器中介质层的制做方法,其特征是所述的刀片为手术刀。

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