[发明专利]金属喷墨片的二元电沉积加工方法有效

专利信息
申请号: 200910033466.0 申请日: 2009-06-22
公开(公告)号: CN101590730A 公开(公告)日: 2009-12-02
发明(设计)人: 周涛;李真明;黎增祺 申请(专利权)人: 昆山美微电子科技有限公司
主分类号: B41J2/16 分类号: B41J2/16;G03F7/16;G03F7/20;C25D1/00
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 代理人: 董建林;孙永生
地址: 215300江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 金属 喷墨 二元 沉积 加工 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种喷墨打印机或印刷机使用的喷墨片的加工方法,具体讲是涉及一种金属喷墨片的二元电沉积加工方法,属于超高精密制造技术领域。

背景技术

随着喷墨打印机对图形分辨率要求逐渐提高,设备制造厂商对喷墨片的性能提出了更高的技术要求。传统激光加工工艺不能满足更高要求的技术规格,其加工的不锈钢喷墨片微孔直径不小于20μm,激光加工能力已经到了极限,不能满足更微小孔的加工要求。因此业界亟需一种微孔达到1~3μm的喷墨片,来满足国内高分辨率打印的膨大需求,摆脱由国外供应高精度微孔喷墨片的高价格供应格局。

发明内容

为解决现有激光加工技术的不足,本发明的目的在于提供一种金属喷墨片的二元电沉积加工方法,满足高性能喷墨器对微孔喷墨片的制造要求,降低使用成本,提高打印分辨率。

为解决上述问题,本发明是通过以下的技术方案来实现的:

一种金属喷墨片的二元电沉积加工方法,其特征在于采用光电加工和二元电沉积技术,具体包括以下步骤:

(1)、设计金属喷墨片的图形文件;

(2)、采用304不锈钢基板,经表面研磨处理、外观检查符合要求后,将基板置于烘箱中烘烤30分钟,烘烤温度为70~80℃;

(3)、将光阻材料热压或印刷在基板上;

(4)、按照设计好的金属喷墨片的图形文件,制作2000DPI的负片光罩菲林,在平行光机上进行高精度曝光;

(5)、将曝光后的基板在1%的显影液中进行清洗,使图形停留在基板上,并作图形尺寸及外观检查;

(6)、将基板放入镍金电铸槽中的电铸溶液中进行二元电铸沉积加工,所述的二元电铸沉积加工是利用一定的电流沉积厚度,分别在光阻材料四周及上面沉积两次而成;

(7)、电铸沉积达到所需要的厚度后,将基板上的金属喷墨片取下,放入超声波清洗机中进行清洗;

(8)、抽样检查、包装。

前述的金属喷墨片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的光阻材料为干膜、光刻胶。

前述的金属喷墨片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的干膜、光刻胶,经由300~400nm的光照射后可以发生固化反应。

前述的金属喷墨片的二元电沉积加工方法,其特征在于在所述的步骤(3)中,将光阻材料热压或印刷在基板上,是利用干膜机在温度110~130℃、压力在1.2kg~1.5kg、速度在0.8~1.0m/s的条件下,将25μm的干膜热压在304不锈钢基板上,保证外观达到要求;或采用印刷、旋涂的方法,将一定厚度的光刻胶在100~200目丝网印刷下,使光刻胶平均涂覆在304不锈钢基板上,厚度为20~50μm。

前述的金属喷墨片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的步骤(4)中的高精度曝光,曝光时UV光能量控制在3~5千瓦。

前述的金属喷墨片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的电铸溶液为镍钴溶液或镍磷溶液。

前述的金属喷墨片的二元电沉积加工方法,其特征在于所述的镍钴溶液的主要成分和含量如下:

氨基磺酸镍溶液:350~550g/L;

氨基磺酸钴溶液:50~300g/L;

氯化镍溶液:10~30g/L;

硼酸:20~45g/L;

光亮剂:1~5ml/L;

添加剂:2~10ml/L。

本发明的有益效果是:采用本发明的二元电沉积加工方法来制造微孔金属喷墨片,可以使微孔金属喷墨片的孔径达到1~3μm的孔径要求,并满足喷墨片打印机达到600DPI的打印分辨率精度,使喷墨片可以喷墨液体颗粒达到5μm以下的直径水平,降低了使用成本。并且,电铸沉积的镍金合金材料硬度达到450~550hv,厚度达到0.020~0.060mm,圆度误差达到0.5μm。

附图说明

图1为本发明的工艺流程图。

具体实施方式

以下结合附图具体介绍本发明的方法。

本发明中的金属喷墨片的二元电沉积加工方法,采用光电加工及二元电铸沉积技术,光阻材料采用干膜或光刻胶,电铸沉积基板采用304不锈钢基板,电铸溶液采用镍磷或镍钴溶液。所采用的干膜或光刻胶,经由波长300~400nm的UV光照射后可以发生固化反应。

本发明的工艺过程为(如图1):

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山美微电子科技有限公司,未经昆山美微电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910033466.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top