[发明专利]统计控制方法

权利要求书

1.一种统计控制方法，其特征在于，包括：

获得样本数据，所述样本数据具有自相关性；

对所述样本数据进行线性回归处理；

根据所述线性回归处理的结果，确定控制界；

根据所确定的控制界，对所述样本数据进行监控。

2.如权利要求1所述的统计控制方法，其特征在于，所述线性回归处理包括：使每个所述样本数据包含自相关因子项；

计算相邻每两个样本数据之差，以所述差值作为所述线性回归处理的结果。

3.如权利要求2所述的统计控制方法，其特征在于，所述样本数据相对于所述自相关因子具有唯一性。

4.如权利要求3所述的统计控制方法，其特征在于，通过下述步骤使每个所述样本数据包含自相关因子项：当不同时间所采集的样本数据具有唯一性时，将采集时间作为自相关因子。

5.如权利要求4所述的统计控制方法，其特征在于，样本数据X_i为X_i＝μ₀+at_i+σ_wξ_i；

其中，i＝1，2，......，g，g为所采集的所有样本数据的数量；μ₀为样本所表征的产品质量参数的平均值；t_i为与所述样本数据X_i相对应的采集时间；a为对不同的采集时间所获得的样本数据进行曲线拟合所获得的斜率；σ_w的平方为所述产品质量参数方差；ξ_i为满足N(0，1)正态分布的独立随机变量。

6.如权利要求4所述的统计控制方法，其特征在于，所述线性回归处理结果为Δ_i＝X_i+1-X_i＝a(t_i+1-t_i)+σ_w(ξ_i+1-ξ_i)；

其中，(t_i+1-t_i)为固定值，(ξ_i+1-ξ_i)为满足N(0，1)正态分布的随机变量。

7.如权利要求6所述的统计控制方法，其特征在于，所述均值为所述控制上界为所述控制上界为

8.如权利要求1所述的统计控制方法，其特征在于，所述样本数据具有自相关性包括：所获得的样本数据之间具有固有的线性偏移的关系。

9.如权利要求1所述的统计控制方法，其特征在于，所述获得样本数据包括：采集数据；对所采集的数据作记录。

10.如权利要求1所述的统计控制方法，其特征在于，所述根据所确定的控制界对所获得的样本数据进行监控包括：根据所述线性回归的结果，获得控制界、均值控制图、偏差控制图；并通过所述控制界和控制图，对所获得的样本数据进行监控。

11.如权利要求1至10中所述的任一种统计控制方法，其特征在于，所述样本数据包括半导体产品的质量参数。