[发明专利]统计控制方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体产品的品质管理方法，特别是对自相关参数的统计控制方法。

背景技术

在企业的生产部门里，每天都要生产或加工大量产品，产品的性能和品质关系到企业的命脉，对产品质量进行及时的监控和检测分析显得尤为重要。品质管理方法就是通过对产品质量进行检测和分析，从而实现对生产的控制的一种方法，其中，常常通过采集产品质量的相关参数数据，采用统计学原理对所采集的参数样本数据进行分析，及时发现问题，从而实现对生产条件或流程的完善和改进。

理论上，采用统计方法对参数进行计算和分析的过程中，总是认为对于同一个参数所采集的采样数据符合一定的前提条件，即采样数据自身为稳定的，且采样数据之间不存在自相关性，那么，通过对符合条件的数据进行一定的计算和分析，确定控制界，当出现数据超出所划定的控制界时，则进行报警。

然而在实际生产过程中，由于受到生产装置或特定流程条件的影响，总是存在着一些参数，对这些参数所采集的样本数据之间具有自相关性，例如，具有线性偏移关系。样本数据具有线性偏移的关系，也就是说，按一定采样顺序所采集的数据之间具有线性增长或线性减小的关系，例如，当随时间递增的顺序所采集的数据由于其内在属性而具有线性增长关系时，那么所获得的每个数据必然比其前面的数据大，而比其后面的数据小。因此，数据之间并不再是不相关。而由于数据彼此之间存在关联，也就是说，数据之间具有自相关性，使得无论是均值控制图还是移动偏移(MR，moving range)控制图，都无法再被用于对这些数据进行监控。因此，现有技术的统计控制方法都无法适用于具有自相关性的参数。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种统计控制方法，能对常规方法所无法监控的具有自相关性的数据进行处理，设置合理的控制界，对生产过程进行监控。

为解决上述问题，本发明提供了一种统计控制方法，包括：获得样本数据，所述样本数据具有自相关性；对所述样本数据进行线性回归处理；根据所述线性回归处理的结果，确定控制界；根据所确定的控制界，对所述样本数据进行监控。

可选的，所述线性回归处理包括：使每个所述样本数据包含自相关因子项；计算相邻每两个样本数据之差，以所述差值作为所述线性回归处理的结果。

可选的，所述样本数据相对于所述自相关因子具有唯一性。

可选的，通过下述步骤使每个所述样本数据包含自相关因子项：当不同时间所采集的样本数据具有唯一性时，将采集时间作为自相关因子。

可选的，样本数据X_i为X_i＝μ₀+at_i+σ_wξ_i；其中，i＝1，2，......，g，g为所采集的所有样本数据的数量；μ₀为样本所表征的产品质量参数的平均值；t_i为与所述样本数据X_i相对应的采集时间；a为对不同的采集时间所获得的样本数据进行曲线拟合所获得的斜率；σ_w的平方为所述产品质量参数方差；ξ_i为满足N(0，1)正态分布的独立随机变量。

可选的，所述线性回归处理结果为Δ_i＝X_i+1-X_i＝a(t_i+1-t_i)+σ_w(ξ_i+1-ξ_i)；其中，(t_i+1-t_i)为固定值，(ξ_i+1-ξ_i)为满足N(0，1)正态分布的随机变量。

可选的，所述均值为所述控制上界为所述控制上界为

可选的，所述样本数据具有自相关性包括：所获得的样本数据之间具有固有的线性偏移的关系。

可选的，所述获得样本数据包括：采集数据；对所采集的数据作记录。

可选的，所述根据所确定的控制界对所获得的样本数据进行监控包括：根据所述线性回归的结果，获得控制界、均值控制图、偏差控制图；并通过所述控制界和控制图，对所获得的样本数据进行监控。

可选的，所述样本数据包括半导体产品的质量参数。

与现有技术相比，本发明能够处理对现有技术所不能处理的具有自相关性的样本数据进行处理，从而获得更加合理的控制界等统计控制参数，对生产过程的监控更加有效。

附图说明