[发明专利]一种横向尺寸窄化的石墨烯片的制备方法无效
| 申请号： | 200910046302.1 | 申请日： | 2009-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN101804976A | 公开（公告）日： | 2010-08-18 |
| 发明（设计）人： | 张东;张天友;沈明 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 林君如 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 横向 尺寸 石墨 制备 方法 | ||
1.一种横向尺寸窄化的石墨烯片的制备方法，其特征在于，该方法包括以下 步骤：
(1)将氧化石墨和去离子水混合，磁力搅拌，得到氧化石墨和去离子水混合 液，对该混合液进行第一次离心处理，得到上清液和第一次下层沉淀物；
(2)向上清液中加入化学还原剂，经还原反应后得到斑点状的横向尺寸窄化 的石墨烯片；
(3)将第一次下层沉淀物与去离子水混合，对该混合液进行超声处理和第二 次离心处理，得到第二次下层沉淀物；
(4)将第二次下层沉淀物与去离子水混合，得到氧化石墨烯水溶胶，向其中 加入化学还原剂，经还原反应后得到片状的横向尺寸窄化的石墨烯片；
所述的步骤(1)中磁力搅拌的转速为200～1000转/分，时间为1～20min；
所述的步骤(1)中第一次离心处理的转速为1000～5000转/分，时间为5～30min；
所述的步骤(2)中化学还原剂选自水合肼，化学还原剂的用量为氧化石墨重 量的0.05％～5％，还原反应的条件为50～100℃的水浴，反应时间为30～150min；
所述的步骤(3)中第二次离心处理的转速为1000～5000转/分，时间为5～30min；
所述的步骤(4)中化学还原剂选自水合肼，化学还原剂的用量为氧化石墨重 量的0.05％～5％，所述的还原反应的条件为50～100℃的水浴，反应时间为30～150 min。
2.根据权利要求1所述的横向尺寸窄化的石墨烯片的制备方法，其特征在于， 所述的步骤(1)中氧化石墨和去离子水混合液的浓度为0.5～5mg/ml。
3.根据权利要求1所述的横向尺寸窄化的石墨烯片的制备方法，其特征在于， 所述的步骤(3)中超声处理的时间为5～30min。
4.根据权利要求1所述的横向尺寸窄化的石墨烯片的制备方法，其特征在于， 所述的步骤(4)中氧化石墨烯水溶胶的浓度为0.5～5mg/ml。
5.根据权利要求1所述的横向尺寸窄化的石墨烯片的制备方法，其特征在于， 所述的氧化石墨由Hummers法制得。
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