[发明专利]带边缘曝光保护的工件台

说明书

技术领域

本发明是有关于一种用于硅片曝光工艺的工件台，且特别是有关于一种用于硅片曝光工艺的带边缘曝光保护的工件台。 

背景技术

在硅片曝光工艺中有正胶曝光工艺和负胶曝光工艺。在负胶曝光工艺流程中有这样一个需求，就是要求硅片边缘不能被曝光，要防止照明光源照射到硅片边缘上。 

本发明针对这种需求揭示了一种带边缘曝光保护功能的工件台，其中的边缘保护功能做在工件台的最上层，与工件台组成一个整体，实现保护功能。实现边缘保护功能的机构结构简单，定位重复定位精度高。 

发明内容

本发明提供一种用于硅片曝光工艺的带边缘曝光保护的工件台。 

本发明所述的带边缘曝光保护的工件台，包括：托盘，其中所述硅片置于所述托盘上；保护环，其中所述保护环位于所述硅片边缘上方，且所述保护环的内直径小于所述硅片直径；驱动定位装置，推动所述保护环移动；真空腔，置于所述保护环下方；其中，当所述保护环推到预设位置时，所述真空腔吸附所述保护环。 

本发明所述的带边缘曝光保护的工件台，还包括XY向驱动机构。 

本发明所述的带边缘曝光保护的工件台，还包括该XY向驱动机构包括：底板；气足，固定连接所述底板；XY向驱动电机；平台，用于支撑所述XY向驱动电机；XY向驱动导轨。 

本发明所述的带边缘曝光保护的工件台，还包括：垂向调平调焦机构，设置于所述底板上；导向簧片，设置于所述垂向调平调焦机构上。 

本发明所述的带边缘曝光保护的工件台，还包括，所述托盘上设置吸盘以吸附所述硅片。 

本发明所述的带边缘曝光保护的工件台，还包括，所述保护环为深色件。 

本发明所述的带边缘曝光保护的工件台，还包括，所述驱动定位装置包括：气缸；驱动轴承，其中所述气缸经所述驱动轴承推动所述保护环移动；第一定位轴承、第二定位轴承，其中所述驱动轴承与所述第一定位轴承、第二定位轴承以正三角形设置于所述保护环周围；检测片；设置于所述驱动轴承；光断续器，探测所述检测片；其中，当所述检测片挡住所述光断续器的光时，所述光断续器发出所述保护环到位信号，开动所述真空腔。 

本发明所述的带边缘曝光保护的工件台，还包括，所述保护环包括：第一凸台，包括凹槽，对应所述驱动轴承；第二凸台，对应所述第一定位轴承；第三凸台，对应所述第二定位轴承；其中，所述驱动轴承推动所述保护环时，卡进所述凹槽内。 

本发明所述的带边缘曝光保护的工件台，还包括，所述气缸是双缸气缸。 

本发明所述的带边缘曝光保护的工件台，还包括弹簧驱动机构，设置于所述气缸与所述保护环之间。 

本发明所述的带边缘曝光保护的工件台，还包括，所述弹簧驱动机构包括：带有导向孔的推板，其一侧抵接于所述气缸；推力销，其一端抵接所述保护环，另一端穿过所述导向孔；弹簧，穿过所述推力销，其一端抵接所述推力销，另一端抵接所述推板。 

本发明所述的带边缘曝光保护的工件台具有以下优点： 

1.该工件台把边缘曝光保护功能集成在一起，实现负胶工艺曝光过程硅片边缘的保护功能； 

2.实现该边缘保护功能的装置采用深色保护圆环挡光，双缸气缸驱动，机械定位限位，光断续器来做位置检测，简单的的控制逻辑，高的水平向重复定位精度；采用真空吸附来实现金属圆环垂向定位； 

3.气缸前端布置弹簧驱动机构，协调保护环被推到位与光断续器给出信号的时间关系，最大限度提高定位精度。 

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配 合附图，作详细说明如下。 

附图说明

图1所示为本发明中带边缘曝光保护的工件台原理示意图。 

图2所示为本发明中边缘曝光保护装置立体示意图。 

图3所示为本发明中保护环定位原理立体示意图。 

图4所示为本发明中保护环定位原理平面示意图。 

图5所示为图1中I部分的局部放大图。 

图6所示为本发明中弹簧驱动机构示意图。 

具体实施方式

为了更了解本发明的技术内容，特举具体实施例并配合所附图式说明如下。