[发明专利]一种阿奇霉素衍生物、其中间体及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种如式I所示的阿奇霉素衍生物或其药学上可接受的盐；

式I

其中，R为被C₆～C₁₀芳基取代或未取代的C₁～C₁₅烷基，卤素取代或未取代的C₆～C₁₀芳基，或者R₆和R₇独自的为C₁～C₄烷基、被1个连接C₁～C₄烷氧基的羰基取代的C₁～C₄烷基、或者被1～3个C₆～C₁₀芳基取代的C₁～C₄烷基；R₄和R₅均为氢或者成环使为

2.如权利要求1所述的阿奇霉素衍生物I或其药学上可接受的盐，其特征在于：R为被1个苯基取代或未取代的C₁～C₁₅烷基，被1个溴取代或未取代的苯基，或者R₆和R₇独自的为C₁～C₃烷基、被1个连接C₁～C₄烷氧基的羰基取代的C₁～C₃烷基、或者被3个苯基取代的C₁～C₃烷基；R₄和R₅均为氢或者成环使为

3.如权利要求2所述的阿奇霉素衍生物I或其药学上可接受的盐，其特征在于：当R₄和R₅均为氢时，R为甲基、十五烷基、异丙基、叔丁基、苯基、苄基、或者R₆为甲基、被1个连接甲氧基的羰基取代的甲基、被2个甲基和1个叔丁氧羰基取代的甲基、或者被3个苯基取代的甲基，R₇为甲基；当R₄和R₅成环使为时，R为甲基、十五烷基、异丙基、苯基、苄基、3-溴代苯基、或者R₆为甲基、被1个甲氧羰基取代的甲基、被2个甲基和1个叔丁氧羰基取代的甲基或者被3个苯基取代的甲基，R₇为甲基。

4.如权利要求1所述的阿奇霉素衍生物I的制备方法，其特征在于包含下列步骤：将化合物II进行脱去2’位羟基的酰基保护基R₈的反应，即可；

其中，R₄、R₅和R的定义均同权利要求1～3任一项所述，R₈为本领域常用的酰基保护基。

5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于：R₈为乙酰基，所述的制备方法包含下列步骤：在温度0℃～回流温度下，在甲醇中，化合物II进行脱去2’-羟基的保护基乙酰基的反应，即可；其中，所述的甲醇与化合物II的体积质量比为0.1～100ml/g；所述的温度为10℃～50℃或者回流温度；所述的反应的时间以检测反应完全为止。

6.如权利要求4或5所述的制备方法，其特征在于：所述的化合物II由下列方法制得：将化合物III进行氨基的酰化反应，即可；

其中，R₄、R₅和R的定义同权利要求1～3任一项所述，R₈的定义同权利要求4或5所述。