[发明专利]一种芯片装配方法有效
申请号: | 200910051553.9 | 申请日: | 2009-05-19 |
公开(公告)号: | CN101894763A | 公开(公告)日: | 2010-11-24 |
发明(设计)人: | 李德君 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 20120*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 芯片 装配 方法 | ||
技术领域
本发明涉及半导体制造中的芯片封装领域,特别涉及一种芯片装配方法。
背景技术
硅片的集成电路制造工艺完成后,通过电测试的硅片进入集成电路制造过程的后道工序——单个芯片的装配和封装。现有技术中,经过了电测试和拣选的硅片通常会在其背面,在对应于每个芯片的位置,利用激光将代表每个芯片功能、型号的标识数码刻印到硅片背面淀积的金属膜上。此后,进入到将硅片划片的程序。在划片前,将硅片从片架上取出并按正确的方向放到固定在刚性框架的粘膜上。该粘膜的功用为在硅片被分片为小块的芯片时仍能保持整个硅片的完整性。划片后,由于粘膜的粘附作用,硅片仍能够被完整地转移进行装架操作。装架时,每个通过了电测试的合格的芯片被挑选出来,与粘膜剥离,最终被粘贴到底座或者引线框架上。但在上述将芯片与粘膜剥离时,由于粘膜的粘附力量较强,通常会使芯片背面淀积的金属膜的边缘部分脱离,甚至可能会导致激光在该金属膜上刻印好的表明芯片功能、型号的标识数码脱落。请参看图1,图1为现有技术中芯片与粘膜剥离时芯片背面的金属膜脱落情况的示意图,由图1中可见,图中芯片与粘膜的剥离导致了该芯片下方两个角上较大面积的金属膜的脱落(如图中圆圈所标示),且金属膜脱落的形状、大小完全不可控制,使得激光刻印的标识数码也有一部分脱落。这样,金属膜的过多脱落不但影响了芯片到底座的导电率,也影响了芯片标识数码的完整性。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种芯片装配方法,以解决硅片被划片后,在装架时,将芯片从粘膜剥离时芯片背面的金属膜由于粘膜的粘附力而过多的脱落的问题。
为解决上述技术问题,本发明提供一种芯片装配方法,包括:
步骤一,在硅片背面对应于每个芯片的位置做标记,并采用凹陷的边界框标出每一个芯片的边界;
步骤二,对硅片进行划片,分离出单个芯片;
最后,装配所述芯片。
可选的,所述步骤一中使用激光在硅片背面淀积的金属膜上做标记。
可选的,所述标记是用于标识每个芯片功能、型号的标识数码。
可选的,所述步骤一中使用激光在硅片背面淀积的金属膜上刻印出所述凹陷的边界框。
可选的,所述步骤二之前还包括:将硅片从片架上取出并按正确的方向放到固定在刚性框架上的粘膜上。
可选的,所述步骤二中分离出单个芯片的步骤具体包括:利用粘膜将硅片完整地转移装架,每个通过了电测试的合格的芯片被挑选出来,与粘膜剥离。
可选的,所述粘膜为蓝膜或UV膜。
可选的,装配所述芯片的步骤包括将分离出的芯片粘贴到底座或者引线框架上。
可选的,根据对硅片测试后得出的成品率的高低选择对硅片上所有芯片实施步骤一或只对成品芯片实施步骤一。
本发明提供的芯片装配方法,由于在硅片测试后利用激光在每个芯片背面的金属膜上刻印芯片标识数码时,也利用激光在芯片背部的金属膜上刻印了一个包含了芯片标识数码的凹下的边界框,使得硅片被划片后,其上的各芯片被剥离粘膜时,芯片背面凹下的边界框内的金属膜不会脱落,这样有效减少并可控制金属膜的脱落面积,可保证芯片到底座的导电率,同时也很好的保护了芯片背面标识数码的完整性。
附图说明
图1是现有技术中芯片与粘膜剥离时芯片背面的金属膜脱落情况的示意图;
图2a~图2b是本发明的芯片装配方法中的激光刻印方法示意图;
图3a~图3e是本发明的芯片装配方法过程示意图;
图4是采用本发明所述芯片装配方法后芯片与粘膜剥离时芯片背面的金属膜脱落情况的示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。
本发明的芯片装配方法可被广泛地应用到许多工艺中,下面是通过较佳的实施例来加以说明,当然本发明并不局限于该具体实施例,本领域内的普通技术人员所熟知的一般的替换无疑地涵盖在本发明的保护范围内。
其次,本发明利用示意图进行了详细描述,在详述本发明实施例时,为了便于说明,示意图不依一般比例局部放大,不应以此作为对本发明的限定。
为清楚说明本发明的实施及利用方法,以下将结合图2a~图2b和图3a~图3e共同对本发明予以说明。
请参看图3a~图3e,图3a~图3e是本发明的芯片装配方法过程示意图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造