[发明专利]无缝镭射膜及其制备方法

权利要求书

1、一种无缝镭射膜，其特征在于包括三层结构，由下至上的顺序依次为载体层、镭射成像层和铝层。

2、如权利要求1所述的无缝镭射膜，其特征在于所述载体层材料为PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)，厚度为15～18μm之间。

3、如权利要求1所述的无缝镭射膜，其特征在于所述镭射成像层材料为树脂，厚度为1～2μm。

4、如权利要求1所述的无缝镭射膜，其特征在于所述铝层的材料为金属铝，厚度为300～500nm。

5、一种无缝镭射膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

(1)载体层成型：将PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)粒子熔融后射出拉伸至指定厚度的原膜载体层，其通常宽度6～8米，长度12000～24000米，之后按需求分切；

(2)涂布：将树脂调配成所需的涂布料，经过涂布机作业，将涂布料均匀分布在载体层上，经过烘烤后收卷；

(3)模压：将镭射版上的图案，经过膜压机的作业压印至经过涂布的载体层上；

(4)镀铝：将已有镭射图案的载体层在镀铝机的真空环境下，将铝高温气化后均匀地附着在载体层表面上；

(5)复纸：将镭射膜经过复合机与白卡纸复合成为整体；

(6)印刷：将镭射卡纸印刷成指定的颜色和图案。

6、如权利要求5所述的制备方法，其特征在于所述模压步骤进行两次。